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光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統 PR-PD2-顆粒物監測儀 參考價：面議
光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統 PR-PD2是通過激光散射方式對曝光工藝中光掩模上的細小顆粒進行檢測的裝置。可檢測光掩模圖案面（Pattern ...
光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統PR-PD3-顆粒物監測儀 參考價：面議
外形小巧、運營成本低、應用范圍廣光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統PR-PD3系列產品運轉效率高，具有*穩定性，受到眾多半導體制造工廠的高度評價。繼...
化學藥液濃度計 CS-700 參考價：面議
化學藥液濃度計 CS-700系列的化學藥液濃度計擁有更好的性能去監測混酸中的各個成分，包括高精*半導體制程中所需的各種化學藥液。通過改進HORIBA的光譜分析測...
HF/HCl濃度計監測儀 HF-960H 參考價：面議
HF/HCl濃度計監測儀 HF-960H適用于測量高濃度的氫氟酸和鹽酸等HF-960H精確測量用于半導體制造或其它制程中所使用的氫氟酸和鹽酸。使用4-電極電導率...
碳質探頭傳感器（高濃度型）監測儀 HE-960HC-濃度計 參考價：面議
碳質探頭傳感器（高濃度型）監測儀 HE-960HC適用于半導體和FPD生產制程中化學藥液和廢液的管理HE-960HC測量電導率可作為基于化學藥液和廢水管理的參數...
TMAH濃度計監測儀HE-960H-TM 參考價：面議
TMAH濃度計監測儀HE-960H-TM適用于顯影液中TMAH的濃度管理HE-960TM可精確測量半導體和液晶生產中光阻顯影藥液制程中主要成份TMAH （四甲基...
SC-2濃度計監測儀 CS-152 參考價：面議
SC-2濃度計監測儀 CS-152高精度化學藥液濃度計專為半導體制造時清洗制程中所使用的SC-1溶液而設計。實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化，可用于監測清除...
BHF濃度計監測儀 CS-137 參考價：面議
BHF濃度計監測儀 CS-137高精度化學藥液濃度計專為半導體制造時清洗制程中所使用的BHF溶液而設計。實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化，可用于監測硅氧化膜...
SPM監測儀 CS-150-水質五參數監測儀 參考價：面議
SPM監測儀 CS-150是半導體制造中清洗工藝的SPM溶液用于高精度藥液濃度的監測儀，實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化。可以實時檢測金屬離子以及有機物的清...
SC-1濃度計監測儀 CS-131 參考價：面議
SC-1濃度計監測儀 CS-131是半導體制造中清洗工藝的SC-1溶液用于高精度藥液濃度的監測儀，實現了過去所沒有的高速響應性和小巧化。可以常時間的監測微粒以及...
光纖式藥液濃度計 CS-100F1系列 參考價：面議
光纖式藥液濃度計 CS-100F1系列通過利用光纖傳播光信號，把樣品單元直接組裝到清洗裝置配管上，實現實時在線測量。 同時，1臺單一的濃度計zui多可以測量4種...
氫氟酸濃度計監測儀CM-200A/210A 參考價：面議
氫氟酸濃度計監測儀CM-200A/210A為監測半導體制造工藝中氫氟酸濃度而開發出來的高精度氫氟酸濃度計。該設備通過采用電磁感應導電率計測量并實時顯示氫氟酸濃度...
