光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統 PR-PD2-顆粒物監測儀

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統 PR-PD2

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統 PR-PD2是通過激光散射方式對曝光工藝中光掩模上的細小顆粒進行檢測的裝置。可檢測光掩模圖案面(Pattern Surface)上的zui小粒徑為0.35μm。并且通過線＆空間1.0?1.5μm的圖案識別功能，可以把檢測誤差抑制在zui低限度。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統 PR-PD2特征

• 0.35μm的檢測靈敏度，90%的檢測率。
• 操作靈活的菜單便于使用。
• zui多可直接從多級分類器內的光掩模盒中裝載10片光掩模。
• 可直接觀察玻璃(Glass)面和圖案(Pattern)面。
• 便利的數據管理便于制做報告。
• 新信號處理方式有利于減少檢測錯誤。
• 使用環境，圖案表面上的污染物的zui小可測粒徑為0.35μm。
  通過光掩模寬度1.5μm、線間1.5μm的圖案判別功能，可以把檢測誤差抑制在zui小限度內。 

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統 PR-PD2應用

在下列工藝中，可以用于細微異物的檢測中。

光掩模制造工藝
1)光掩模坯件上的異物檢測
2)EB中描畫?清洗后的圖案/玻璃面的異物檢測
3)表膜粘貼后的圖案/玻璃/表膜各面的異物檢測
4)粘貼前表膜單體的異物檢測(可選件功能)

曝光工藝
1)光掩模的接收檢査(入庫檢查)
2)曝光前的光掩模例行程序的異物檢測(工藝管理) 
3)光掩模的定期異物檢測(工藝管理)

優點

在圖案面，0.35μm的異物檢測靈敏度
高速過量地檢測圖案/玻璃/表膜各面
帶有上下面異物觀察功能(觀察倍率多級切換) 
可應用于各種縮小投影型曝光裝置盒(適用于多級曝光裝置盒：zui大可達到10級) 
各種各樣的檢査條件設定功能和簡便的檢測操作
內置數據管理功能，可以輸出各種各樣的報告。
支持GEM通信功能(顧客要求的功能　可選件) 
高可靠性、低運營成本