等離子清洗器

摘要 產品簡述：

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摘要 產品簡述：小功率等離子處理機可提高表面附著力，提高表面親水性，可聯機，與現場設備聯機使用；功率調節采用面板旋鈕控制；可直接與非標機自動化設備配套操作控制；如有需要，請聯系上海軒儀

摘要 產品簡述：本文是低溫等離子表面處理機（大氣等離子清洗機）的各類機型的匯總，主要介紹各種機型的實際應用情況，對于各種形狀、材質、處理需求、處理效率的產品，給出選型方案。如果需要更詳細的了解和選型，可聯系我司。

摘要 簡要描述:真空等離子清洗機應用PCB行業:對材料表面的刻鐘作用--物理作用:等離子體中的大量離子

摘要 等離子表處理機采用低溫等離子技術進行表面處理借助于等離子表面活化處理的技術實驗室分析顯示

摘要等離子設備應用行業：真空等離子清洗機應用于3C（手機組裝粘接，攝像頭模組耳機中框粘接，提高表面附著力）；汽車制造（大燈，方向盤，密封條，擋風玻璃ECU等提升附著力和密封性）；新能源（電池粘膠，封裝，藍膜粘接等）；半導體（芯片粘接前處理，引線框架的表面處理，半導體封裝等...

摘要等離子設備應用行業： 旋轉式高分子材料等離子清洗機應用于3C（手機組裝粘接，攝像頭模組耳機中框粘接，提高表面附著力）；汽車制造（大燈，方向盤，密封條，擋風玻璃ECU等提升附著力和密封性）；新能源（電池粘膠，封裝，藍膜粘接等）；半導體（芯片粘接前處理，引線框架的表面處理...

摘要 鑫凈淼 紫外線殺菌消毒器750W 資質齊全具有水流均勻、光射條件好、殺菌好、能耗低、安裝靈活方便等特點，主體材質采用不銹鋼，無金屬離子侵染問題，產品結構為密閉容器石英套管式，內設電氣控制裝置。

摘要離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統配置與實際應用緊密協調，以確保獲得速率更快且重復性更好的工藝結果。 詢價 增加到詢價列表 在詢價...

摘要 一、等離子清洗機的應用領域玻璃、觸摸屏材料科學印刷造紙油墨涂料醫學醫療、薄膜、高分子電子電路紡織纖維化學化工石油化工二、PCB板等離子清洗機可在線高速處理

摘要MKS-600系列大氣壓在線等離子表面活化系統功能特點1.清潔活化基材表面，提高基材表面達因系數，增強基材附著力，提升精密產品合格率，同時達到消除基材表面靜電功能。2.自動調寬，處理范圍可設定，高度可設定，可過含夾具產品。3.表面處理過程中等離子體輸出溫度低，不傷基材...

摘要 作為在實驗室中使用的等離子體研發平臺，我們努力嘗試為客戶解決一切可能在實驗活動中遇到的需求。“因為是自己研發的，所以我們知道怎么改！”我們的總工這樣評價我們的研發能力。我們非常樂意傾聽用戶需求，與用戶一起合作，制造出能夠幫助客戶解決問題的設備。

摘要 甲岸Plasma真空等離子清洗機一般包括真空系統,電源系統,供氣系統和清洗室,清洗室內安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應不同的清洗場合。甲岸等離子清洗機

摘要 甲岸Plasma真空等離子清洗機一般包括真空系統,電源系統,供氣系統和清洗室,清洗室內安裝有電極架,可以將射頻電極,地極按照交替的方式組合放置,以適應不同的清洗場合。甲岸等離子清洗機

摘要 矽碁還專為客戶定制過性價比的PECVD與RIE聯合系統，該聯合系統采用統一的真空氣路及電控系統，在實現多功能的前提下有效節省成本

摘要 反應離子刻蝕(ReactiveIonEtching,RIE)是指在平板電極間施加射頻電壓，通過產生的等離子體對樣品進行化學和物理刻蝕

摘要等離子清洗機VP-R5真空腔體石英材質，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLAS...

摘要真空等離子清洗機VP-R3真空腔體石英材質，頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PL...

摘要NPC-3500（A）研發用等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力...

摘要 NIE-3000離子束清洗系統：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的臺式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑等。

摘要 NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

摘要 LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的一體化系統，可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

摘要LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統為全自動機械手上下載片，可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功...

摘要 SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

摘要 SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

摘要SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統配套機械手，也可以升級為多系統的集成架構。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子...

摘要NPC-3000等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:...

摘要NPC-3500（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具...

摘要NPC-4000（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 系列屬于寬束型離子源, 散射角度45.霍爾離子源氣體流量可選 2-25sccm/ 2-50sccm/ 2-50sccm/ 2-75sccm/ 5-100sccm 等不同級別.霍爾離子源電流可選 5A...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統, 可以控制較低的離子能量, 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 3...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 屬于無柵網離子源. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / ...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 10, 寬束柵網離子源,最小型號的離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.離子束流: 10 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (...

摘要上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 (柵網離子源) KDC40. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應用.離子束流: 100 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical fl...