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等離子清洗機(jī)（plasmacleaner）也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。中文名等離子清洗機(jī)外文名Plasmacleaner別名等離子表面
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 75, 緊湊柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 250 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流....
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摘要上海伯東代理美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規(guī)格柵網(wǎng)離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 400 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵網(wǎng).加熱燈絲產(chǎn)生電...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 100 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 100, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.KRI 射頻離子源屬于大面積射頻離子源 (柵網(wǎng)離子源), 離子束流: 350 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000....
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.離子束流: 600 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 2000 特別適合大中型真空系統(tǒng), 帶有水冷方式, 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流. 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.尺寸: 直徑= 5.7 高= 5.5放電電壓 / 電流: 50-30...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上, 提供離子束流的無(wú)柵網(wǎng)離子源.尺寸: 直徑= 9.7 高= 6放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A操作氣...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 屬于柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.離子束流: 650 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 系列. 屬于柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.離子束流: 10 mA~650 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵網(wǎng)離子源.離子束流: 800 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.離子束流: 100 mA~1500mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合...
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摘要上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 離子源, 99%原廠.KRI 射頻離子源 RFICP 380 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: 1500 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.離子束可聚焦, 平行, 散射.采用射...
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摘要等離子體清洗好處,對(duì)PTFE進(jìn)行等離子活化處理,蝕刻工藝,為彈性密封件和PTFE密封件研發(fā)了很好的等離子工藝,并得到了應(yīng)用,等離子體清洗與其它清洗方式對(duì)比表.等離子體清洗好處： １、其除去了有機(jī)層（含碳污染物），其會(huì)受到例如，氧氣和空氣的化腐蝕，通過(guò)超壓吹掃，將其從表...
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