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    • NPC-3500(A)研發用等離子去膠機

    NPC-3500(A)研發用等離子去膠機

    參考價訂貨量

    1000000

    ≥1臺

    具體成交價以合同協議為準
    • 型號
    • 品牌其他品牌
    • 所在地國外
    • 更新時間2023-03-22
    • 廠商性質生產廠家
    • 所在地區上海
    • 實名認證已認證
    • 產品數量40
    • 人氣值1081
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    那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務大中華區(包含中國大陸,香港,中國臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室,提供銷售和售后技術服務。


    那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創立的全資子公司,是一家國際前列的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


    自2001年Nano-Master開始設計開發薄膜應用方面的設備,正式面世的系統依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應濺、共濺 、組合濺),熱蒸發和電子束蒸發,離子束刻蝕和反應離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經發展成為國際薄膜設備的供應商,已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發中心和國家重點實驗室。

    我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務工程師、技術支持人員,使得公司擁有專業的服務團隊。作為薄膜工藝的設備提供商,我們的目標是提供高品質的服務并始終維持超高水平的集成度。






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    產地進口 加工定制
    NPC-3500(A)研發用等離子去膠機:NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
    NPC-3500(A)研發用等離子去膠機 產品詳情

    NPC-3500(A)研發用等離子去膠機概述:NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。


    NPC-3500(A)研發用等離子去膠機產品特點

    • 緊湊型立式系統

    • 自動上下載片

    • 帶Load Lock

    • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

    • 兼容100級超凈間使用

    • 淋浴頭、ICP或微波等離子源

    • 旋轉樣品臺

    • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺

    • 全自動或手動RF調諧

    • z多可支持5MFC帶電拋光的氣體管路

    • PC計算機控制的氣動閥

    • 帶密碼保護的多級訪問控制

    • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

    • 機械泵的壓力可達到10mTorr

    • 250 l/s的渦輪分子泵

    • 極限真空為5x10-7Torr

    • 完整的安全聯鎖

    研發用等離子去膠機應用:

    • 有機物以及無機物的殘留物去除

    • 光刻膠剝離或灰化

    • 去殘膠以及內腐蝕(深腐蝕)應用

    • 清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架

    • 提高黏附性,消除鍵合問題

    • 塑料的表面改型:O2處理以改進涂覆性能

    • 產生親水或疏水表面






    關鍵詞:氣動閥
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