上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.
離子束流: >800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量（Typical flow）: 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr
離子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.
離子束流: >800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr
離子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.
通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:
離子源型號 | RFICP 220 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >800 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 20 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域：
1. 預清洗
2. 表面改性
3. 輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
4. 濺鍍和蒸發鍍膜 PC
5. 離子濺射沉積和多層結構 IBSD
6. 離子蝕刻 IBE
