詳細摘要： PhaseCam6000系列干涉儀是美國4D技術公司的經典產品，適用于大口徑、長光程光學元件及系統的測量。PhaseCam6010 ，采用光源與干涉儀分離的設計...
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詳細摘要： PhaseCam6000系列干涉儀是美國4D技術公司的經典產品，適用于大口徑、長光程光學元件及系統的測量。PhaseCam6010 ，采用光源與干涉儀分離的設計...
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詳細摘要： PhaseCam4030干涉儀是美國4D技術公司的經典產品PhaseCam4020的升級型號，適用于大口徑、長光程光學元件及系統的測量。PhaseCam4030...
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詳細摘要： ESPI電子散斑干涉儀，用來解決漫反射表面的形變測量問題。PhaseCam ESPI動態電子散斑干涉儀，可以解決在現場環境下的表面沿軸向的一維形變測量問題，精度...
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詳細摘要： PhaseCam6110是PhaseCam6000系列干涉儀的另一個型號，有助于提高大口徑光學元件面形測量的分辨率，適合數字加工以及高分辨系統的裝調。Phase...
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詳細摘要： PhaseCamIR紅外干涉儀涵蓋中波紅外和長波紅外， 是美國4D技術公司基于其動態干涉儀技術推出的紅外泰曼格林型動態干涉儀；采用兩個輸出端設計，一端用于安裝球...
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詳細摘要： PolarCam同步偏振相機能從一幀圖像中獲得多個偏振角度的圖像信息，且不會產生圖像模糊問題。小巧、快速、實時成像，這些特點使得它能夠應用在圖像增強，偏振測量等...
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詳細摘要： scia Mill 150適用于在多種材料復雜多層膜上的微結構刻蝕。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高選擇性和刻蝕速率。由于其節省空間的設計，sc...
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詳細摘要： scia Mill 200適用于在多種材料的復雜多層膜上進行微結構刻蝕，樣品尺寸可達直徑200mm。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高刻蝕選擇比和...
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詳細摘要： scia Mill 300適合針對直徑達300 mm的各種基底材料的離子束刻蝕。該系統對活性氣體相容，能夠進行反應蝕刻工藝以提高刻蝕選擇比和刻蝕速率，并可配備不...
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詳細摘要： scia Trim 200用于晶圓或光學元件的高精度表面離子束修整或拋光，而不受薄膜和材料的限制。該系統專為批量生產而設計，具有滿足產能和維護的優化布局，可以配...
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詳細摘要： Scia Finish 1500離子束拋光機用于高精度光學元件的表面拋光。該IBF系統采用高去除率、高穩定離子束源，配備高效真空系統，可用于24/7運行的批量生...
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詳細摘要： scia Coat 200雙離子束濺射鍍膜機，具有的均勻性，適用于直徑達Φ200 mm基底的鍍膜。用離子束濺射鍍膜代替其他鍍膜工藝，可以獲得光滑無缺陷的...
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詳細摘要： scia Coat 500雙離子束濺射鍍膜機，用于精密光學的大尺寸基板的高均勻性鍍膜，菜單控制的沉積過程可保證鍍膜質量的重復性。最多可以允許4種擋板，可以提高均...
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詳細摘要： scia Multi 680 磁控濺射鍍膜系統是專門為高精度光學多層膜制造而設計的，在直徑為Φ680mm以內的平面或曲面基底上，鍍制超過100個周期的超...
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詳細摘要： scia Multi 1500 磁控濺射鍍膜系統是專門為高精度光學多層膜制造而設計的，在直徑為Φ1500mm以內的平面或曲面基底上，鍍制超過100個周期...
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詳細摘要： scia Cube 750用于樣品尺寸為 750 mm x 750 mm 的大面積鍍膜和刻蝕。可用于計量光柵的制造。
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詳細摘要： scia Cube 300用于樣品尺寸為 300 mm x 200 mm 的大面積鍍膜和刻蝕。
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