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GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀

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更新時(shí)間：2023-03-13 16:28:29瀏覽次數(shù)：463次

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北京格微儀器有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

描述全自動(dòng)知識(shí)產(chǎn)品沒有熱損傷

詳細(xì)介紹

描述

全自動(dòng)知識(shí)產(chǎn)品

沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡

應(yīng)用領(lǐng)域

設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)

名稱&型號(hào)	高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵（進(jìn)口）：德國(guó)萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s）旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s）
真空測(cè)量	全量程復(fù)合真空規(guī)（進(jìn)口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系統(tǒng)極限真空	≤5E-3Pa
濺射電源	磁控濺射電源,功率150W
可用靶材	所有金屬靶材，ITO靶材
濺射電壓	300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流	0-200mA連續(xù)可調(diào),步長(zhǎng)5mA
濺射時(shí)間	0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長(zhǎng)1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
操作方式	一鍵操作
抽氣節(jié)拍	＜15分鐘
控制方式	只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可，全自動(dòng)控制具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制
保護(hù)功能	軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護(hù)等
樣品臺(tái)直徑	φ125mm，可自轉(zhuǎn)，可自動(dòng)手動(dòng)控制，轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào)
真空室	高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ200×130mm
電源供電	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（長(zhǎng)) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重)
冷卻方式	內(nèi)部風(fēng)冷
選配	樣品臺(tái)選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測(cè)等