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在專業、敬業、拼搏的理念指導下，不斷進取學習，時刻關注域科學的發展和創新，北京眾星聯恒科技有限公司致力于引進的X射線產品、及新孵化*產品給中國的同步輻射，研究所，高校及制造業的客戶。

我司是德國INCOATEC公司、美國XOS（光學組件）、德國X-SPECTRUM、德國GREATEYES、德國Microworks、捷克ADVACAM、及英國MSI輝光放電質譜儀的中國區總代理，產品線包含X射線源、X射線光學元件、X射線探測器、X射線系統、OPCPA飛秒激光器和輝光光放電質譜儀等。我司同時致力于給客戶提供x射線解決方案，并于2016年推出了具有自主知識產權的桌面超快X射線診斷裝置，具有超微、超亮、高信噪比和高穩定性的特點，在物質超快過程研究、精細分辨成像等方面具有重要的應用價值。

我們堅持以客戶需求為導向，以專業、專注為根本，以高效服務為核心，緊密跟進學科的發展，努力從客戶處學習并豐富完善自己的技術儲備，解決客戶的實際需求，以前沿技術驅動的創新獲取公司發展的空間，逐步成長為優秀的X射線領域及的材料分析系統方案提供商。

我們敬畏知識不斷進步所帶來的變化和革新，堅信：高品質的產品及優質的服務是獲得客戶認可的標準！

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產品簡介在線詢價

XUV高反射率鏡

XUV高反射率鏡產品詳情

公司介紹：

NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發與銷售經驗。在范圍內，通過與眾多來自同步輻射科學，阿秒科學，高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作，積累了大量*的設計與制造技術，其產品在業內享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率，高聚光效率等特點，適合被各種輻射光設施使用。另外，分辨率測試卡被當作業界的標準。不只是學術研究，在X射線的檢查裝置開發現場也被廣泛使用。XUV鏡片，XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助，對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X射線領域給予客戶在研發上的幫助。

產品介紹：

因為NTT-AT公司的多層反射鏡質量高，所以一直被世界上的研究機構所選用。本公司定制多層材料和結構，滿足用戶的基板、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規格。還應對耐高溫多層反射鏡。利用同步加速器設備的反射率評估服務也可作為選項提供。

XUV多層反射鏡（EUV多層反射鏡）

基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環面、橢圓面
基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）、SiC/Mg（25eV至50eV）、Cr/C（至300eV）等

基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（標準值為1英寸）

產品示例

Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率。
NTT-AT公司的XUV反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。

北京眾星聯恒科技有限公司

Φ10毫米平面反射鏡

北京眾星聯恒科技有限公司

測量的Mo/Si多層的反射率
（正入射角：2度）

北京眾星聯恒科技有限公司

用于泵浦探測試驗的多層反射鏡

北京眾星聯恒科技有限公司

測量寬帶反射鏡、
窄帶反射鏡（波長：30納米）的反射率

北京眾星聯恒科技有限公司

EUV寬帶橢圓面反射鏡
（Φ100毫米zero dewer）

北京眾星聯恒科技有限公司

No	Design name	AOI	pol.	peak energy		reflectivit	bandwidth (FWHM)
1	HR-98-3.4	5 deg	s	98 eV	12.7 nm	67.7%	3.4 eV	(0.4 nm)
2	HR-95-3.8	5 deg	s	95 eV	13.1 nm	67.7%	3.8 eV	(0.5 nm)
3	HR-90-3.8	5 deg	s	90 eV	13.8 nm	68.0%	3.8 eV	(0.6 nm)
4	HR-85-4.0	5 deg	s	85 eV	14.6 nm	66.8%	4.0 eV	(0.7 nm)
5	HR-80-4.0	5 deg	s	80 eV	15.5 nm	63.3%	4.0 eV	(0.8 nm)
6	HR-75-4.6	5 deg	s	75 eV	16.5 nm	54.5%	4.6 eV	(1.0 nm)
7	HR-70-5.0	5 deg	s	70 eV	17.7 nm	47.5%	5 eV	(1.2 nm)
8	HR-70-2.6	5 deg	s	70 eV	17.7 nm	52.1%	2.6 eV	(0.7 nm)
9	HR-65-2.6	5 deg	s	65 eV	19.1 nm	48.5%	2.6 eV	(0.8 nm)
10	HR-60-2.8	5 deg	s	60 eV	20.7 nm	43.7%	2.8 eV	(1.0 nm)
11	HR-55-3.6	5 deg	s	55 eV	22.5 nm	37.3%	3.6 eV	(1.5 nm)
12	HR-50-4.2	5 deg	s	50 eV	24.8 nm	30.9%	4.2 eV	(2.1 nm)
13	HR-48-2.0	5 deg	s	48 eV	25.8 nm	50.6%	2.0 eV	(1.1 nm)
14	HR-45-2.4	5 deg	s	45 eV	27.6 nm	48.4%	2.4 eV	(1.4 nm)
15	HR-40-2.6	5 deg	s	40 eV	31.0 nm	44.8%	2.6 eV	(2.0 nm)
16	HR-35-2.6	5 deg	s	35 eV	35.4 nm	43.1%	2.6 eV	(2.6 nm)
17	HR-30-3.0	5 deg	s	30 eV	41.3 nm	41.2%	3.0 eV	(4.1 nm)
18	HR45-90-6.0	45 deg	s	90 eV	13.1 nm	66.1%	6.0 eV	(0.9 nm)
19	HR45-80-7.4	45 deg	s	80 eV	15.5 nm	60.0%	7.4 eV	(1.4 nm)
20	HR45-70-36.0	45 deg	s	70 eV	17.7 nm	49.0%	3.6 eV	(0.9 nm)
21	HR45-60-5.4	45 deg	s	60 eV	20.7 nm	40.8%	5.4 eV	(1.8 nm)
22	HR45-50-10.0	45 deg	s	50 eV	24.8 nm	30.0%	10.0 eV	(5.1 nm)
23	HR45-40-5.0	45 deg	s	40 eV	31.0 nm	44.4%	5.0 eV	(3.8 nm)
24	HR45-30-7.0	45 deg	s	30 eV	41.3 nm	42.5%	7.0 eV	(9.3 nm)

天文學
XUV光電子光譜
XUV顯微
EUV光刻
等離子體物理
阿秒科學

關鍵詞：標準

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