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    橢偏儀

    橢偏儀[1-2]是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構的光學測量儀器。由于測量精度高,適用于超薄膜,與樣品非接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種吸引力的測量儀器。中文名橢偏儀特點測量精度高光譜范圍深紫外的142nm到紅外33um可選應用領域半導體、微電子、MEMS等1工作原理下圖給出了橢偏儀的基本光學物理結構。已知入射光的偏振態,偏振光在樣品表面被反射,測量得到反射光偏振態(幅度和相位),計算或擬合出材料的屬性。入射光束(線偏振光)的電場可以在兩個垂直平面上分解為矢量元

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    橢偏儀

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    • SE-VE光譜橢偏儀
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      摘要 SE-VE光譜橢偏儀SE-VE是一款高性價比快速測量光譜橢偏儀。高性價比光學橢偏測量解決方案緊湊集成設計,使用簡便,一鍵快速測量向導交互式人機界面,便捷的軟件操作體驗豐富的材料數據庫和算法模型庫。

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    • SE-L光譜橢偏儀
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      摘要 SE-L光譜橢偏儀SE-L是一款科研級全自動高精度快速光譜型橢偏儀,可通過橢偏參數、透射/反射率等參數的測量,實現光學薄膜和納米結構的表征分析。適用于各向同性薄膜材料快速測量表征。

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    • SE-Mapping光譜橢偏儀
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      摘要SE-Mapping光譜橢偏儀概述SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,采用行業前沿創新技術,配置全自動Mapping測量模塊,通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表...

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    • 摘要 PMS 橢偏在線監測裝備針對LCD、OLED等新型平板顯示量產中所涉及的PI配向膜、光刻膠薄膜、ITO薄膜、有機發光薄膜、有機/無機封裝薄膜等質量控制需要,專門設計的在線薄膜測量系統。可適用于空氣、N2、真空等環境條件,自動實現玻璃基板上各種膜系結構厚度分布。

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    • SE-PV光伏橢偏儀價格
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      摘要 SE-PV光伏橢偏儀價格產品概述SE-PV 是一款光伏行業領域型光譜橢偏儀,針對光伏行業絨面單晶硅或多晶硅太陽能電池表面減反膜測量定制開發,快速實現薄膜物性表征分析。

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    • SE-Glass 光譜橢偏儀價格
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      摘要 SE-Glass 光譜橢偏儀價格產品概述SE-Glass 是一款針對玻璃蓋板行業定制的型光譜橢偏儀,針對玻璃蓋板光學鍍膜行業通過集成微光斑+可視化調平系統儀消除透明基底背反測量定制開發,快速實現玻璃蓋板上多層薄膜物性表征分析。

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    • 摘要 全自動橢偏檢測機臺價格產品概述頤光科技全自動橢偏檢測機臺作為一種小型橢偏集成機臺,通過整體高度模塊化,電、氣路集成技術,實現不同橢偏測量模塊在線/離線式整體橢偏測量解決方案。

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    • 原位監測橢偏儀IMS型
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      摘要 原位監測橢偏儀IMS型是在科研級光譜橢偏儀的基礎上,根據有機/無機鍍膜工藝研究的需要研發的原位薄膜在線監測儀器,可用于金屬薄膜、無機薄膜、有機薄膜的蒸鍍、濺射等光學薄膜工藝過程的實時原位在線監測。

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    • 摘要 寬光譜成像光譜橢偏儀IE-L系列是結合單/雙旋轉補償器橢偏調制技術和光學成像技術,實現對薄膜和納米結構的實時可視化分析測量。可同時高橫向分辨率的得到視場內樣品上所有微區的橢偏參數。

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    • SE-L型自動光譜橢偏儀
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      摘要 自動光譜橢偏儀SE-L型是一款科研級全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多頤光科技技術于一體,采用行業前沿創新技術,配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。

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    • 自動光譜橢偏儀SE-L型
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      摘要 自動光譜橢偏儀SE-L型是一款科研級全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多頤光科技技術于一體,采用行業前沿創新技術,配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。

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    • 光譜橢偏儀SE-VE型
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      摘要光譜橢偏儀SE-VE型是一款高性價比快速測量光譜橢偏儀,可通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征。高性價比光學橢偏測量解決方案緊湊集成設計,使用簡便,一鍵快速測量向導交互式人機界面,便捷的軟件操...

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    • 光譜橢偏儀SE-VM型
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      摘要光譜橢偏儀SE-VM型是一款科研級高精度快速測量光譜橢偏儀,可通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征。高性價比光學橢偏測量解決方案緊湊集成設計,使用簡便,一鍵快速測量向導交互式人機界面,便捷的軟...

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    • 光譜橢偏儀Mapping系列
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      摘要 光譜橢偏儀Mapping系列是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,集眾多頤光科技技術于一體,采用行業前沿創新技術,配置全自動Mapping測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量表征分析。

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    • 摘要全自動Mapping光譜橢偏儀SE-100A是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,集眾多頤光科技技術于一體,采用行業前沿創新技術,配置全自動Mapping測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現薄膜全基片膜厚以及光學參數自定義繪制化測量...

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    • 摘要 寬光譜穆勒矩陣橢偏儀ME-L型是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,可通過反射/透射率、橢偏參數、穆勒矩陣和退偏指數等參數測量,實現各種光學薄膜和納米結構的表征分析。

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    • 摘要 Radiation 全光譜反射儀

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    • 分光橢偏儀SEMILAB在線光

      分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000
      在線光譜橢偏儀SE-3000,在線光譜橢偏儀μSE-2500,分光橢偏儀SE-2100 (旋轉補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉補償器型),激光橢圓儀LE-5100
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