SE-Mapping光譜橢偏儀
概述
SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。
概述SE-Mapping光譜橢偏儀
SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。
。全基片橢偏繪制化測量解決方案
。支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量
。配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力
。豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
產(chǎn)品特點SE-Mapping光譜橢偏儀
采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集；
具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告；
產(chǎn)品應(yīng)用
廣泛應(yīng)用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。
武漢頤光科技有限公司（Wuhan Eoptics Technology Co,Ltd）是一家專業(yè)從事光學(xué)儀器設(shè)備研發(fā)及光機(jī)電產(chǎn)品制造、銷售的*。公司由一批歸國留學(xué)人員創(chuàng)辦，與華中科技大學(xué)緊密合作，現(xiàn)有員工80%以上擁有碩士或博士學(xué)位，是光學(xué)儀器設(shè)備領(lǐng)域技術(shù)優(yōu)勢的技術(shù)團(tuán)隊。
頤光科技注冊于武漢東湖國家自主創(chuàng)新示范區(qū)，立足光谷，面向，為用戶提供光學(xué)散射測量儀等系列產(chǎn)品，并提供儀器、軟件、服務(wù)等綜合解決方案。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體、光伏太陽能、平板顯示、LED照明、存儲、生物、醫(yī)藥、化學(xué)、電化學(xué)、光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、減反膜、光刻材料等眾多領(lǐng)域。
