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一、應用領域：
VCD高真空箱是一種先進的設備，廣泛應用于航空、航天、軍事、電子、通訊、光電等科研及生產單位。這種設備在高真空環境下對半導體材料進行淀積和蝕刻處理，為制造高質量、高精度的半導體器件和集成電路提供了有力的支持。
VCD高真空箱主要由真空室、電子槍、樣品臺、氣體控制系統等組成，其核心技術在于能夠精準控制真空室內的氣壓、溫度和化學反應條件。這種設備能夠達到非常低的真空度，例如133Pa以下，從而創造出的氣壓環境使得研究人員能夠進行一些在大氣壓下無法進行的實驗。
二、主要技術指標：
規格型號： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600
內箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600
外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650
真空度范圍： 100000Pa～1Pa
控制方式： 真空計顯示或PLC觸摸屏控制
結構： 一體式結構（內置真空泵）或分體式（外置真空泵）
內箱材質： SUS304#不銹鋼
外箱材質： SECC鋼板高級烤漆處理
使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ
選加功能： 加熱功能（RT+10℃～200℃）
真空泵： 另購（可用戶自備）
VCD高真空箱在航天領域的應用尤為突出。航天器在發射前需要進行各種測試，其中包括在高真空環境下的測試。VCD高真空箱能夠提供這樣的環境，模擬航天器在太空中的工作環境，從而測試航天器和航天器部件的性能和可靠性。這種設備對于確保航天器在太空環境中的正常工作起到了關鍵作用。
除了航天領域，VCD高真空箱還在其他領域發揮著重要作用。例如，它可以用于制備高質量薄膜，通過加熱蒸發待制備材料，在真空環境下進行化學反應，形成薄膜。在這個過程中VCD高真空箱需要施加一定的壓力，以保證材料在高溫下均勻地蒸發和沉積在基底上。因此，VCD高真空箱壓力的大小直接影響到薄膜的質量和均勻性。
總的來說，VCD高真空箱是一種功能雖大、應用廣泛的設備。它通過精確控制真空室內的條件，為科研和生產單位提供了高質量的半導體器件、集成電路和薄膜制備解決方案。隨著科技的不斷進步，VCD高真空箱將在更多領域發揮其作用，推動科技的進步和發展。
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