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    電容薄膜規(guī)的應情況介紹

    時間:2016-5-5閱讀:2313
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    電容薄膜規(guī)要求高的應用條件下,而快速的壓強測量
    1、用于刻蝕,CVD,PVD,ALD半導體設備制造,如太陽能光伏行業(yè)的PECVD用的很多,刻蝕上一般用陶瓷型的CDG025D-X3比較多,抗污染性能比較好。一般國內用的PECVD還有多晶爐上用的MKS的電容薄膜規(guī)622A/626A/627D和INFICON的CDG025D比較多,如德國Ruth&Rau公司的PECVD設備標配產品為MKS的626B13TDE和627D01TDC1B,質量流量計用的是1179BX23CR14VSPC1 800sccm/SiH4和1179BX5CR14NSPC1  2000sccm/NH3,國內用的好多PECVD設備上用的是INFICON的CDG025D。
    2、資料貯存和顯示器制造設備
    3、工業(yè)真空設備
    4、常用高精度真空測量

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