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    深圳市新則興科技有限公司


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    Leica EM Res102 多功能離子減薄儀

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    產品型號

    品       牌

    廠商性質其他

    所  在  地深圳市

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    更新時間:2024-06-03 11:43:45瀏覽次數:431次

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    產品簡介

    使用徠卡 EM RES102,使您的樣品具備的靈活性,具有輕薄、清潔、拋光、切割的坡度和結構。的離子束研磨系統結合了在一個單工作臺面單元上制備TEM、SEM和LM樣品的特點。各種樣品架可以進行多元化應用。除了高能量的離子銑工藝,徠卡EM RES102也可適于采用低離子能量處理非常柔軟的樣本。

    詳細介紹

    的解決方案

    Leica EM RES102是一款的離子束研磨設備,帶有兩個鞍形場離子源,離子束能量可調,以獲得離子研磨結果。這一款獨立的桌面型設備集 TEM,SEM和LM樣品制備功能于一體,這與市面上其它設備截然不同。除了高能量離子研磨功能外,徠卡EM RES102還可 用于低能量極溫和的離子束研磨過程。

    • TEM 樣品:
      • 單面或雙面離子束研磨適用于材料的離子束減薄過程。鞍形場離子源可獲得很大的電子束透明薄區。
      • 程序化控制的離子入射角度變化,適用于完成特殊的樣品制備目的,例如FIB樣品清潔,以減少無定形非晶層。
    • SEM 或 LM 樣品:
      • 離子束拋光拋光區域可達25mm。
      • 離子束清潔適用于對樣品表面污染層或機械拋光后表面產 生的涂抹層進行清潔。
      • 樣品表面襯度增強作用,可替代化學刻蝕作用。
      • 35°斜坡切割用于制備多層樣品的截面。
      • 90°斜坡切割用于制備復合結構的半導體樣品或組裝器件,這種方式所需的機械預加工工作最少。

    為了支持多樣化的應用需求,Leica EM RES102 可以裝配各種樣品臺以適用于TEM,SEM及LM 樣品制備。預抽室系統實現樣品快速交換,從而可有效提高樣品交換效率 。

    帶給您的好處

    Leica EM RES102 可對樣品進行離子束減薄,清潔,截面切割,拋光以及襯度增強,這極大滿足了您對應用需求的多樣化和便利性。

    • 操作簡便
      • 19”觸摸屏電腦控制單元,監控并記錄制樣過程
      • 內置應用參數庫
      • 程序化制樣參數設定,加速初學者學習曲線
      • 幫助文件幫助初學者以及對設備進行維護
    • 高效/節約成本
      • TEM,SEM和LM應用功能集于一體
      • TEM樣品制備獲得的薄區大,有效提高了TEM樣品制備效率
      • SEM樣品制備可達25mm樣品直徑
      • 預抽室系統幫助快速交換樣品,減少等待時間,并保證了樣品室的持續高真空
      • 局域網功能方便遠程操控
      • LN2樣品臺使得溫度敏感型樣品可在優化條件下進行離子研磨
    • 安全
      • 精確的自動終止功能,適用于光學終止或透明樣品的法拉第杯終止
      • 在制樣過程中可以時時存儲活圖像或視頻
      • 離子源和樣品運動馬達驅動,程序化控制,因而可獲得重復性制樣結果

    主要功能

    對無機薄片樣品進行離子減薄,使得薄片樣品可被透射電子穿過,從而適宜TEM透射電子顯微鏡觀察;對無機塊狀樣品進行離子束拋光、離子束刻蝕,樣品表面離子清洗及斜坡切割,便于SEM掃描電子顯微鏡觀察樣品內部結構信息。

    優異性價比

    一臺設備即可為TEM、SEM、LM電鏡檢測提供試樣,多種應用功能集于一體,高效并節約成本安全;所有機械控制、樣品移動實現全自動化,可獲得重復性制樣結果分段冷卻;對溫度敏感樣品得到充分保護,在優化條件下進行離子研磨,保持樣品的原生態操作簡便;內置應用參數庫,幫助文件,無論是初學者還是后期維護都十分簡單。

    儀器參數
    離子源 離子槍 兩把鞍形場離子槍,離子研磨區域大
    離子能量 0.8 kev 至 10 kev (0.1keV每步)
    離子束流 4.5 mA (每把離子槍)
    離子束流密度 8kV/3mA條件下約1mA/cm2(每把離子槍)
    離子束半高寬FWHM 10keV 條件下0.8mm,2keV 條件下2.5mm
    使用氣體

    氬氣 (Ar 5.0)

    進氣氣壓 500 mbar

    氣體流速 每把離子槍小于1 sccm,自動控制
    傾斜角度設定(電腦控制) 離子槍1傾斜 ± 45°(精確度為0.1°)
    離子槍2傾斜 ± 45°(精確度為0.1°)
    樣品臺傾斜范圍 –230° 至 100°(精確度為0.1°)
    離子研磨角度范圍 –90° 至 90° (角度與不同樣品臺有關)
    樣品移動范圍(電腦控制) 旋轉速率 0.6 至 10 rpm
    擺動范圍 360°,每步1°
    零位設置 每步1°
    X方向移動 ±5mm,精確度0.1mm
    傾斜范圍 -230°至 100°
    裝載樣品尺寸 SEM樣品臺樣品尺寸 Ø 25 mm × 12 mm
    SEM樣品臺離子研磨區域 Ø 25 mm
    TEM和FIB樣品臺樣品尺寸 Ø 3 mm 或 Ø 2.3 mm
    SEM薄片樣品臺樣品尺寸 5 mm (H) × 7 mm (W) × 2 mm (D)
    SEM斜坡切割樣品臺樣品尺寸 5 mm (H) × 5 mm (W) × 3 mm (D)
    冷凍裝置 (選配) 自動液氮制冷接觸裝置
    自動加熱裝置避免潮濕污染樣品
    LN2 消耗量 約0.6L/h
    操作控制(用戶界面) Windows 7操作系統,19英寸觸摸屏電腦控制
    具有局域網遠程控制和監視功能
    內置應用程序庫
    可個性化修改和存儲離子研磨參數,單個程序使用或者組合程序序列
    真空系統 無油真空系統,<1×10-5mbar,配置4段式隔膜泵和渦輪分子泵(70 L/s)
    配置預抽真空室,樣品交換時間小于1分鐘
    真空檢測 全程范圍真空檢測,Pirani真空計檢測低真空,冷陰極檢測高真空
    觀察系統 數字CMOS彩色攝像頭,帶自動放大觀察功能,自動光圈調整和自動聚焦
    可實時存儲圖像和錄像
    離子束感光功能(偽彩色圖像),用于精確調整離子槍對中
    自動終止離子束加工過程 通過時間終止
    對于不透明樣品的光學終止
    對于不透明和透明樣品的法拉第杯終止(選配)
    電氣參數 電壓 90至260 VAC, 50/60 Hz
    功率 400 W

     

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