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HMDS真空烘箱
產品用途及原理
HMDS預處理系統(電腦式HMDS真空充氮烘箱)主要應用于半導體晶圓片光刻涂膠鍍膜前預處理，增黏劑HMDS涂覆作業。本設備適用于在涂膠前對晶片進行預處理，集真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液多功能與一體。設備由箱體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統組成。通過多次預抽真空，充氮加熱循環進行，既能達到使硅片表面干燥、潔凈的效果，又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質的擴散，并且可以通過加液系統在硅片表面開成HDMS保護膜，從而使硅片具有良好的涂膠性能。和手工涂布HMDS相比，具有重復性好，節省藥液，環保，對人體無害的顯著優點;也可用于晶片其它工藝的清洗。
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