PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD). PECVD系統(tǒng)的中文名是等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。是在CVD的基礎(chǔ)上加一個射頻電源，這個射頻電源通過感應(yīng)線圈使管式爐爐管內(nèi)......

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品名稱：單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號： PECVD-12DZVK 單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
      VPECVD-12DZVK 立式單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
      RPECVD-12DZVK 轉(zhuǎn)管式單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)


PECVD系統(tǒng)應(yīng)用：

PECVD系統(tǒng)的中文名是等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。是在CVD的基礎(chǔ)上加一個射頻電源，這個射頻電源通過感應(yīng)線圈使管式爐爐管內(nèi)氣體形成等離子體，等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，從而在基片上沉積出所期望的固態(tài)沉積物。PECVD具有比普通CVD沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高、沉積所需的溫度低等優(yōu)點。PECVD是由CVD系統(tǒng)再加一個PE500射頻電源、線圈組成

PECVD系統(tǒng)組成：

PECVD系統(tǒng)=等離子電源+管式爐+真空抽氣系統(tǒng)+多路供氣系統(tǒng)（或者液態(tài)蒸發(fā)系統(tǒng)）

單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)配置選擇：

配置一：管式真空氣氛爐：

SK2-12DZ 管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：50、60、80、100、150mm

VSK2-12DZ 立式管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：60、80、100mm

RSK2-12DZ 轉(zhuǎn)管式真空管式氣氛爐，1200℃，管徑：60mm

配置二：真空抽氣系統(tǒng)：
可以選配：LVSE-0.1；LVSE-0.1A；HVSE

LVSE-0.1低真空控制系統(tǒng)
產(chǎn)品應(yīng)用：

該系統(tǒng)為一組低真空機組設(shè)備，控制設(shè)備真空度小于1Pa一下；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設(shè)備使用

設(shè)備組成：設(shè)備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵組成

技術(shù)參數(shù)：

1、 真空泵：FX-16

2、 真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、 真空泵極限壓強：（Pa）≤4*10^-2

4、 高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、 真空波紋管：KF25*1000mm

6、 真空計VRD-I:規(guī)管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

7、 電源功率：220v/50Hz；0.8kw

8、 出氣進(jìn)氣口規(guī)格：KF25

9、 連接口：2個KF25接口

LVSE-0.1A可調(diào)低真空控制系統(tǒng)

產(chǎn)品應(yīng)用：
該系統(tǒng)為一組低真空恒壓機組設(shè)備，控制設(shè)備真空壓力恒定在1.0KPa—100.0KPa之間；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設(shè)備使用

設(shè)備組成：設(shè)備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵、變速器、電動調(diào)節(jié)閥門等組成；

技術(shù)參數(shù)：

1、真空泵：FX-16

2、真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、真空泵極限壓強：（Pa）≤4*10^-2

4、高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、真空波紋管：KF25*1000mm

6、真空計：VRD-I:

7、規(guī)管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

8、電源功率：220v/50Hz；0.8kw

9、調(diào)速變頻器：0.75kw

10、壓強控制范圍：1.0KPa—100KPa

11、壓強控制精度：±1KPa

12、出氣進(jìn)氣口規(guī)格：KF25

13、連接口：2個KF25接口

HVSE高真空控制系統(tǒng):

產(chǎn)品應(yīng)用：
該系統(tǒng)為一組復(fù)合分子泵、前級抽氣泵機組設(shè)備，控制設(shè)備真空度小于8*10^-4Pa；配合真空管式爐、箱式真空氣氛爐等高真空設(shè)備使用；廣泛應(yīng)用于表面分析、半導(dǎo)體設(shè)備、等離子體技術(shù)、電真空器件的制造及真空技術(shù)研究

設(shè)備組成：設(shè)備由復(fù)合分子泵、前級抽氣泵、隔斷放氣閥、前級管路、分子泵電源、高真空檢測系統(tǒng)（復(fù)合真空計）、控制電源組成

產(chǎn)品特點：

預(yù)抽氣旁路設(shè)計，前級抽氣不經(jīng)過分子泵避免預(yù)抽氣體中顆粒進(jìn)入分子泵

技術(shù)參數(shù)：

1、 前級真空泵：TRP-24

2、 真空泵抽氣速度：4L/s

3、 分子泵：FJ-620

4、 抽氣速率：600L/s

5、 分子泵極限壓強：6*10^-6Pa

6、 建議啟動壓強：＜100Pa

7、 排氣口法蘭：KF40

8、 進(jìn)氣口法蘭：DN160LF