上海全耀儀器設備有限公司
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MProbe RT薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)
波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等；
藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長范圍(200-1700nm)：
系統性能參數：
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 光斑直徑 | 標準2mm, 可以小至3um |
| 樣品大小 | 大于1 mm |
測量指標：薄膜厚度，光學常數
界面友好強大: 一鍵式測量和分析。
實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。
技術參數：
| 測量范圍 | 1nm-50um 或1nm-150um |
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 波長范圍 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
| 光譜儀和檢測器 | F4光譜儀，3600像素CCD檢測器，16位深 |
| F3光譜儀，512像素InGaAs 檢測器 | |
| 光譜分辨率 | 2nm（UVVis），4nm（NIR） |
| 光源 | 20W鹵鎢燈（添加氙），色溫3100，壽命：2000小時 |
（內部結構示意圖）
我們樂意為您進行免費樣品測量，歡迎。
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