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PL SERIES
Midas推出了一種臺式、獨立的納米壓印平臺：PL系列PL 200/400/600。該平臺提供了一個帶有微定位裝置的機械平臺，用于安裝納米壓印室、UV固化源和校準顯微鏡。它既可以作為納米壓印系統，也可以作為傳統的掩模對準器，同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控制。
?基板尺寸 PL 200:2英寸，PL 400:4英寸，PL 600:6英寸（尺寸較小，形狀不規則）
?壓印面積與晶圓尺寸相同
?模板尺寸 PL 200:2，1英寸，PL 400:4，3，1英寸，PL 600:6，4，2，1英寸
?壓印壓力1 psi標準
?包括模具/基板自動釋放-無需特殊工具
?95%強度水平下的紫外線照射時間2~3分鐘
?對準能力X、Y、Z和θ（精度2μm）
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