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MDA-400LJ/600LJ光刻機(jī) 光刻機(jī) 光刻機(jī)
光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶(hù)的青睞。

產(chǎn)地：韓國(guó)MIDAS公司，能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性?xún)r(jià)比
型號(hào)：MDA-400LJ/600LJ光刻機(jī) 光刻機(jī)
廠(chǎng)家鏈接：.cn/

MDA-400LJ

操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊，UV-LED壽命長(zhǎng)

?手動(dòng)操作

?掩模版尺寸達(dá)5英寸

?基板尺寸為4英寸圓形

?均勻性光束尺寸125mm圓

?UV光源UV LED

?光束波長(zhǎng)365 nm

?光束均勻性<±3%

?365 nm強(qiáng)度 ~20 mW/?

?手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)

?對(duì)準(zhǔn)精度1 um

?操作模式軟、硬、真空接觸和接近

?工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接觸

?尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）

MDA-600LJ

操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊，UV-LED壽命長(zhǎng)

?手動(dòng)操作

?掩模版尺寸高達(dá)7英寸

?基板尺寸為6英寸圓形

?均勻光束尺寸170 mm圓

?UV光源：UV LED

?光束波長(zhǎng)365 nm

?光束均勻性<±5%

?365 nm強(qiáng)度 ~20 mW/?

?手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)

?對(duì)準(zhǔn)精度1 um

?操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

?工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度，真空接觸

?重量（kg）150

?尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）