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更新時間：2021-03-01 10:11:48瀏覽次數：189次
MOKE系統
MBE 系統
TPD系統
磁控濺射儀
狹縫擠出型涂布機
詳情介紹
等離子體增強化學氣相沉積系統
PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上可達8路MFC和多樣化的氣體選擇； 均勻性：≤±3%； 預抽真空室和自動晶片裝卸門； 全自動控制；
應用領域： 等離子誘導表面改性； 等離子清洗； 等離子聚合； SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜； 碳納米管(CNT)的選擇性生長。
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