原位納米粒度監測儀 返回列表頁

DLS動態光散射技術是非常成熟的N3表征技術，可用于測量納米體系混懸液的粒度及粒度分布。穩定的激光光源照射布朗運動的納米顆粒，將致使散射光強發生波動，光電二極管檢測器獲得這些波動后，通過斯托克斯-愛因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析，快速、精確、重復性好，是目前應用的N3粒度測量方法。Vasco Kin原位納米粒度監測儀以廣為熟知的DLS動態光散射技術為基石,集成了穩定的光學單元、靈敏的光電二極管檢測器和靈活的非浸入式探頭,結合專用的分析軟件和數學模型，是一款針對各類型納米體系中的顆粒尺寸原位監測系統。

與傳統DLS相比，Vasco Kin原位納米粒度監測儀顯著增大了樣品濃度范圍和粒度的測量范圍。Vasco Kin原位納米粒度監測儀不但保持了傳統DLS動態光散射儀器的高靈敏度和寬適應性，還開創性地采用了非浸入式遠程探頭，將DLS技術帶入原位過程監測的廣泛應用場景，并增加了創新的時間關聯功能。

原位納米粒度監測儀特點：

流體動力學分析

高速數據采集，實時數據處理

集成化程度高，無運動部件，維護和使用成本低

模塊化設計，可更換探頭，一機多能，一機多用

測試靈活，可根據樣品濃度及透光性調整工作距離和散射角

時間切片，可選取監測曲線中的任意時間段進行粒徑分析

超低延時，無需頻繁采樣，原位監測納米顆粒的變化過程

操作簡便，非浸入式探頭，無需批量稀釋，無需樣品預處理

適用性好，配備背散射技術，原濃或深色的不透明樣品同樣適用

應用領域：

實時監控納米顆粒合成工藝、提高懸浮穩定性等

原位測量(在反應器、高壓滅菌器、密封小瓶等裝置內部進行測量)

將粒度測量與其他光譜法(X 射線小角散射、小角中子散射、拉曼光譜法、紫外-可見光譜法等) 相結合.