雙向觀測全譜ICP光譜儀 Plasma 3000

    鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,最懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！歡迎. ：文經理 電話: 手機

Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統

Plasma 3000ICP光譜儀采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。 優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。

光源

固態射頻發生器，高效穩定，體積小巧，效率高，匹配速度快，鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，均能獲得優異的長期穩定性。 垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現。 實時監控儀器運行參數，高性能CAN工業現場總線，保障通訊高效可靠。

進樣系統

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，精確的位置重現。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經過優化的進樣系統，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸（HF） 等樣品的測試。

使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，百萬級像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。

軟件系統

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗