Plasma 2000 ICP光譜儀

穩健高效的全固態光源

    全固態射頻發生器，體積小、效率高，全自動負載匹配，速度快、精度高，能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，具有優異的長期穩定性。

    垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

    簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現。 

    實時監控儀器運行參數，高性能CAN工業現場總線，保障通訊高效可靠。

精密的光學系統

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用超純SiO₂棱鏡，高光路傳輸效率，保證了深紫外區的元素測量。

    優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。

光室多點充氣技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。

光室氣路獨立，可充氮氣或氬氣。

      包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。

進樣系統

儀器配備系列經過優化的進樣系統，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測試。

使用一體式炬管，易于維護，轉換快速，使用成本低。

使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，流量連續可調，保障測試性能長期穩定。

4通道12滾輪蠕動泵，泵速連續可調，確保樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應，高紫外量子化效率，抗飽和溢出

具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度

一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，獲得更為快速、準確的分析結果

同類產品中靶面尺寸，百萬級像素，單像素面積24μm X 24μm

三級半導體制冷,制冷溫度低于-35℃，具有更低的噪聲和更好的穩定性