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    Plasma 1000 ICP光譜儀-ICP-AES分析儀

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    更新時間:2025/04/27 20:01:21瀏覽次數:205

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    產品簡介

    詳細介紹

    1.   分析流程全自動化控制,實現軟件點火、氣路智能控制功能;

    2.   輸出功率自動匹配調諧,功率參數程序設定;       

    3.   優良的光學系統,*的控制系統,保證峰位定位準確,信背比優良;

    4.   極小的基體效應;       

    5.   測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態線性范圍5—6個數量級;

    6.   檢出限低,大多數元素的檢出限可達ppb級;

    7.   良好的測量精度,穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優于國家*標準(JJG768-2005);

    8.   Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩定性小于0.1%;

    9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調,可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;

    10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;

    11. 高精度的光室恒溫系統,保證儀器優良的長短期精度;

    12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩定;

    13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規定小于10V/m)。

    14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。

    15. 人性化的軟件設計,操作方便,*升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數據處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數據處理功能強大,提供了多種方法,如內標校正、IECS和QC監測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。

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