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    行業(yè)資訊行業(yè)財(cái)報(bào)市場標(biāo)準(zhǔn)研發(fā)新品會(huì)議盤點(diǎn)政策本站速遞
    摘要根據(jù)國家市場監(jiān)督管理總局計(jì)量司國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范制修訂計(jì)劃安排,全國新材料與納米計(jì)量技術(shù)委員會(huì)已完成了《電子探針顯微分析儀校準(zhǔn)規(guī)范》(修訂)國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范的征求意見稿。

      【儀表網(wǎng) 儀表標(biāo)準(zhǔn)】根據(jù)國家市場監(jiān)督管理總局計(jì)量司國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范制修訂計(jì)劃安排,全國新材料與納米計(jì)量技術(shù)委員會(huì)已完成了《電子探針顯微分析儀校準(zhǔn)規(guī)范》(修訂)國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范的征求意見稿。為了使國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范能廣泛適用和更具可操作性,特向全國有關(guān)單位征求意見。
     
      電子探針顯微分析儀(electron probe micro analyzer,EPMA)用于研究材料表面形貌特征和元素定性、定量、元素分布分析(元素組成及樣品表面元素濃度分布)。EPMA 采用波長色散型X 射線分光器(WDS),與能量色散型X 射線分光器(EDS)相比,具有高分辨率的特點(diǎn),可以進(jìn)行更高精度和更高靈敏度的分析,是當(dāng)今材料領(lǐng)域技術(shù)研究的最重要表征工具之一,被廣泛應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、金屬和非金屬材料、冶金學(xué)、生物等科學(xué)領(lǐng)域。電子探針不僅用于基礎(chǔ)研究分析,也被廣泛用于生產(chǎn)在線的檢驗(yàn),品質(zhì)管理的分析,以及能源、環(huán)境等檢測,特別是應(yīng)用于金屬固熔體相、相變、晶界、偏析物、夾雜物等非破壞性的元素分析和觀察。
     
      國際標(biāo)準(zhǔn)化組織于2014年發(fā)布了ISO 14594:2014 Microbeam analysis -- Electron probe microanalysis -- Guidelines for the determination of experimental parameters for wavelength dispersive spectroscopy,規(guī)定了電子探針檢測的參數(shù)要求。全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)已頒布能譜法分析相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),如GB/T 15074-2008《電子探針定量分析方法通則》、GB/T 15616-2008《金屬及合金的電子探針定量分析方法》、GB/T 21636-2008《微束分析 電子探針顯微分析(EPMA)術(shù)語》、GB/T 30705-2014《微束分析 電子探針顯微分析 波譜法實(shí)驗(yàn)參數(shù)測定導(dǎo)則》等。國內(nèi)法規(guī)僅有檢定規(guī)程JJG 901-1995(2005)《電子探針分析儀檢定規(guī)程》。該檢定規(guī)程已實(shí)施二三十年,很多技術(shù)指標(biāo)都無法滿足電子探針的發(fā)展需求。通過制定電子探針顯微分析儀校準(zhǔn)規(guī)范,可以進(jìn)一步規(guī)范電子探針的生產(chǎn)和使用,實(shí)現(xiàn)電子探針的標(biāo)準(zhǔn)化校準(zhǔn),保證其量值傳遞的準(zhǔn)確可靠。
     
      本規(guī)范主要依據(jù)JJF1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》進(jìn)行編制,JJF1001-2011《通用計(jì)量術(shù)語及定義》、JJF1059.1-2012《測量不確定度評定與表示》、JJF 1094-2002《測量儀器特性評定》共同構(gòu)成支撐校準(zhǔn)規(guī)范制定工作的基礎(chǔ)性系列規(guī)范。
     
      本規(guī)范為首次制定,主要技術(shù)內(nèi)容和計(jì)量特性參考了JJG 901-1995(2005)《電子探針分析儀檢定規(guī)程》、GB/T 15074-2008《電子探針定量分析方法通則》、GB/T 21636-2008《微束分析 電子探針顯微分析(EPMA)術(shù)語》和GB/T 30705-2014《微束分析 電子探針顯微分析 波譜法實(shí)驗(yàn)參數(shù)測定導(dǎo)則》的部分內(nèi)容。
     
      按照J(rèn)JF 1071-2010《國家計(jì)量校準(zhǔn)規(guī)范編寫規(guī)則》的要求制定電子探針顯微分析儀校準(zhǔn)規(guī)范,在內(nèi)容和格式上與JJF 1071-2010保持一致。校準(zhǔn)規(guī)范的具體內(nèi)容有范圍、概述、計(jì)量特性、校準(zhǔn)條件、校準(zhǔn)項(xiàng)目和校準(zhǔn)方法、校準(zhǔn)結(jié)果的表達(dá)、復(fù)校時(shí)間間隔等。
     
      校準(zhǔn)環(huán)境條件:
     
      1.環(huán)境溫度:(20±5) ℃,溫度波動(dòng)≤1℃/h。2.相對濕度:≤75%。3.雜散磁通量密度:≤5×10-7 T。4.地基振幅:≤5μm。
     
      校準(zhǔn)前準(zhǔn)備:
     
      1.儀器應(yīng)具有名稱、型號、制造廠名、出廠編號等標(biāo)識。校準(zhǔn)前,需確保電子探針處于正常的工作狀態(tài)及沒有影響校準(zhǔn)計(jì)量性能的因素后方可進(jìn)行校準(zhǔn)。2.根據(jù)電子探針的操作規(guī)程,將標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)固定于試樣桿置于電子探針樣品室;抽真空直到樣品室的真空度達(dá)到工作狀態(tài)且穩(wěn)定。3.在定量分析校準(zhǔn)過程中,根據(jù)所測元素設(shè)置加速電壓,過壓比應(yīng)不小于1.8,最佳過壓比為2~3。4.標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)表面定位在光學(xué)顯微鏡的焦面上,測試位置應(yīng)避開劃痕、污染、坑洞及夾雜等。5.樣品臺(tái)傾斜設(shè)置為0°,使標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)表面垂直于入射電子束;將電子束亮度和合軸調(diào)到測試狀態(tài),靜置穩(wěn)定時(shí)間不少于30min。
     
      校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá):
     
      經(jīng)過校準(zhǔn)的電子探針出具校準(zhǔn)證書。校準(zhǔn)證書包括的信息應(yīng)符合JJF 1071-2010中5.12的要求。
     
      復(fù)校時(shí)間間隔:
     
      送校單位可根據(jù)電子探針實(shí)際使用情況自主決定復(fù)校時(shí)間間隔,建議復(fù)校時(shí)間間隔一般為1年。
     
      本規(guī)范適用于新安裝、使用中和維修后的各類電子探針顯微分析儀的校準(zhǔn)。

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