1. 設備用途
本產品為臥式對開式結構設計,結構新穎外形美觀。主要供生產企業在高真空或保護氣氛條件下對氧化鎵等氧化物進行還原并蒸餾提純使用,可以用于5N以上單質金屬的制備使用。
2. 設備圖
主要技術參數
3.1 感應電源功率:≤70KW IGBT中頻電源
3.2 電源電壓:380V、3相、50Hz
3.3 設計溫度:1000-1400℃
3.4 坩堝容量:25Kg(以鋼液7.8g/cm3密度比重計算)
3.5極限真空度:6.7*10-3Pa(冷態,潔凈,無坩堝保溫層)
3.6保護氣氛:氮氣、氬氣≤0.03MPa
3.7配置冷凝收集罩裝置。
3.8外形尺寸:3500×1800×2400mm(L×W×H)
3.9設備總重量:1200Kg