Dimension XR 原子力顯微鏡
納米力學、納米電學和納米電化學研究的解決方案
Dimension XR:
布魯克的Dimension XR掃描探針顯微鏡（SPM）系統攘括了原子力顯微鏡數十年來的研究和技術創新。通過常規的真原子相分辨率，以及一系列的技術，包括峰值力輕敲模式、數據立方體模式、SECM和AFM-nDMA，Dimesnion XR系統可提供的性能和功能。Dimension XR 系列將這些技術整合提供完整的解決方案，以滿足納米力學、納米電氣和納米電化學應用的需求。在空氣、流體、電氣或化學反應環境中對材料和納米尺度系統的定量研究從未如此簡單。
高光譜成像
納米電學表征
包括用于功能材料、半導體和能源研究表征的最完整的電學 AFM 技術。
納米級分辨
電化學成像
提供納米尺度下電池、燃料電池和腐蝕相關的局部電化學活性定量分析的分辨率的成套解決方案。
易用性
納米力學分析
提供定量的整套解決方案，用于材料的結構和納米力學性能表征。
以性能支持首和的 AFM 功能
針對高級研究的優化配置
XR納米力學
XR納米力學提供一系列高級應用模式，其亞分子分辨率單可實現聚合物鏈的最小結構基元的全面研究。研究人員將納米力學數據與宏觀尺度動態力學分析和納米壓痕研究與布魯克專有的AFM-nDMA™模式關聯。從軟粘性水凝膠和復合材料到硬質金屬和陶瓷，都實現可定量的納米尺度表征。
XR納米電學
Dimension XR的納米電學套裝涵蓋了泛的AFM電學技術。研究人員利用專有的 DataCube 模式，能捕獲每個像素點的電學信息，并于力學性能表征結果相關聯，從而提供了過去單個測量條件下無法獲得的信息。
XR納米電化學
Dimension XR納米電化學配置可實現基于 AFM的穩定的掃描電化學顯微鏡（AFM-SECM）和電化學 AFM（EC-AFM）功能。研究者在這套系統中可同時采集材料的納米級電化學、電學和力學性能。
所有模式、所有環境的分辨率:
無論是在液體環境中獲得樣品真原子相，還是在空氣中獲得樣品模量和導電性的原子級分辨率分布，Dimension XR系統在所有測量中都能提供的分辨率。它們使用布魯克專有的峰值力輕敲技術在各種軟硬樣品上的性能表征已成為，包括聚合物中的分子缺陷或晶體中的缺陷。同樣技術也被用來分辨粗糙玻璃上的精細起伏結構，且具有驚人的穩定性，在數百次掃描后還能保持最初的分辨率。Dimension XR系統將峰值力輕敲模式與穩定性、的探針技術和布魯克數十年的針尖掃描創新經驗相結合，在各種尺寸、重量或介質的樣品上，在任何應用中都實現了穩定的分辨率成像。
革命性 AFM -nDMA
AFM 可以在納米尺度上研究聚合物樣品在流變性相關頻率線性區域的性能，提供完整的定量粘彈性分析。專有的雙通道檢測、相位漂移校正和參考頻率追蹤技術在流變相關的0.1 Hz至20 kHz頻率范圍內進行小應變測量，獲得與宏觀DMA分析相符的存儲模量、損耗模數和損耗角正切值等性質。
四組分聚合物（COC、PE、LLDPE、彈性體）的高分辨率存儲模量圖（左）和相應點（右）采集的存儲模量頻譜。
專有的數據立方體模式:
這些模式利用快速力陣列模式在每個像素點中執行力曲線測量，并具有用戶定義的停留時間數據采集。使用高速數據捕獲功能，在停留期間執行多種電學測量，從而在每個像素上產生電學和力學譜。數據立方體模式在單次測量中提供完整的表征，這在商用AFM中是的。
的峰值力掃描電化學顯微鏡:
具有納米級空間分辨率的峰值力輕敲掃描探針顯微鏡重新定義了液體中納米尺度下電化學過程表征。峰值力輕敲掃描探針電化學顯微鏡在數量級上顯著改善了與傳統方法的分辨率。這使得對能源存儲系統、腐蝕科學和生物傳感器的更全新研究，為單個納米粒子、納米相和納米孔進行新測量打開了大門。只有峰值力輕敲掃描探針電化學顯微鏡能同時形貌、電化學、電學和力學分布圖，并具有納米尺度的橫向分辨率。
（A）布魯克預裝的峰值力輕敲掃描電化學顯微鏡探針提供了簡單、安全的操控性，的穩定性，在數小時成像和多次使用-清潔循環中都能保持分辨率。（B）探針的掃描電鏡圖像;（C）使用COMSOL模擬的在10mM[Ru(NH3)6]3溶液中的針尖電化學電流分布；（D） 從 50 次連續掃描中挑選的第 1、25 和 50 次循環伏安掃描譜，掃描速率為20 mV/s;（E）長達2小時的恒流測試，以Ag/AgCl為參比電極。（F）模擬（虛線）和實驗（實線）獲得的接近曲線。C和E圖像由 加州理工的C. Xiang和 Y. Chen提供。
