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    • MiniLab-125 PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    MiniLab-125 PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

    參考價
    面議
    具體成交價以合同協(xié)議為準
    • 型號
    • 品牌
    • 所在地杭州市
    • 更新時間2024-04-03
    • 廠商性質(zhì)其他
    • 所在地區(qū)杭州市
    • 實名認證已認證
    • 產(chǎn)品數(shù)量312
    • 人氣值4047
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    應用領域:電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚度可以較準確地控制,可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜
    MiniLab-125 PVD 薄膜沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

    應用領域:

    電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚 度可以較準確地控制,可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

    MiniLab 125  PVD 薄膜沉積系統(tǒng)(電子束1).jpg

    基本配置:

    真空腔室:500mm×650mm 不銹鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理;腔室底板,頂部和側(cè)面裝有腔室內(nèi)硬件接口; 前門上配直徑 80 玻璃觀察窗(含手動防污染擋板、可拆洗防污玻璃);腔體水冷。 

    抽氣系統(tǒng):采用復合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng); 主抽泵:分子泵抽速≥ 1200L/S,氮氣壓縮比≥ 109 前級泵:VRD-30 雙極旋片泵及電磁閥,抽速:8L/S 主抽閥:CCQ-200 超高真空氣動插板閥 

    * 真空系統(tǒng)可以升級為進口分子泵和渦旋干泵。 

    真空測量: 數(shù)顯復合真空計:兩低一高全量程數(shù)顯復合真空計; 

    * 真空測量可以升級為進口全量程冷陰極真空計 

    極限真空:<5×10-5Pa 恢復真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

    電子束蒸發(fā)源:電子槍采用磁流體密封,安裝在腔室底部靠中心位置。 高壓電壓:DC-3KV -10KV(可設) 電流:0-1000mA(此時的加速電壓是 -10kV 加速功率:10KW;電子束偏轉(zhuǎn)角:270°(永磁鐵) 

    坩堝:配直徑 160mm 6 穴直冷坩堝一套,電動轉(zhuǎn)位和點動轉(zhuǎn)位,定位精準。單穴容量≥ 20cc 

    薄膜鍍層控制儀: Inficon SQC-310 在線測量膜厚,可以實時測量蒸發(fā)的速度和厚度,帶有 PID 控制功能, 可通過膜厚儀自動控制蒸鍍速率。 

    樣品臺:可容納樣品尺寸,6 英寸樣品托一個 , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 采用基片臺背板直接水冷形式;基片采用無氧銅,水冷不控溫。 

    控制單元:15 英寸觸摸屏 +PLC 控制

    選擇配置:

    樣品可加熱控溫,( 可選帶掩膜庫系統(tǒng)樣品臺 ) 溫度范圍:室溫 -600,控溫精度 ±0.5 

    電子槍可選用進口品牌 

    離子束輔助沉積源 

    全量程真空計 (Inficon)

    系統(tǒng)要求標準配置:

    工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

    工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣 

    : 三相 380V, 50Hz, 63A 

      :18-25 , 6L/min,壓力 <0.4MPa


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