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    • NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)

    NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)

    參考價(jià)
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    • 型號(hào)
    • 品牌
    • 所在地廣州市
    • 更新時(shí)間2023-07-07
    • 廠(chǎng)商性質(zhì)其他
    • 所在地區(qū)廣州市
    • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
    • 產(chǎn)品數(shù)量197
    • 人氣值1515
    產(chǎn)品標(biāo)簽

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    廣州標(biāo)旗光電科技發(fā)展股份有限公司成立于2005年,位于國(guó)家*產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)廣州科學(xué)城。在光譜快速檢測(cè)領(lǐng)域深耕10年,熟悉各種光譜快速檢測(cè)方案的搭建,為化工、光電、材料、農(nóng)學(xué)、生物等不同領(lǐng)域的客戶(hù)提供了上百種檢測(cè)方案,2014年被認(rèn)定為*。公司擁有強(qiáng)大的研發(fā)、銷(xiāo)售團(tuán)隊(duì),擁有*的創(chuàng)新能力,2015年榮獲廣州開(kāi)發(fā)區(qū)“瞪羚企業(yè)”稱(chēng)號(hào),2016年成功認(rèn)定為廣州市研發(fā)機(jī)構(gòu),2016年順利通過(guò)ISO 9001:2015質(zhì)量管理體系認(rèn)證。
    標(biāo)旗在“科技創(chuàng)新,真誠(chéng)服務(wù)”的企業(yè)核心價(jià)值觀(guān)的下,不斷創(chuàng)新和發(fā)展,形成集算法開(kāi)發(fā)、軟件開(kāi)發(fā)、硬件開(kāi)發(fā)、光路設(shè)計(jì)及電路設(shè)計(jì)為一體的研發(fā)體系,標(biāo)旗團(tuán)隊(duì)基于光纖光譜儀的應(yīng)用,開(kāi)發(fā)了不同應(yīng)用領(lǐng)域的光譜快速檢測(cè)儀器,不斷沉淀與打造自主品牌——科思凱(Qspec)。目前,標(biāo)旗已擁有一系列具有核心競(jìng)爭(zhēng)力的科思凱產(chǎn)品,包括:平面光學(xué)元件光譜分析儀、球面光學(xué)元件顯微檢測(cè)儀、透過(guò)率檢測(cè)儀、珠寶檢測(cè)儀、近紅外光譜檢測(cè)儀、全光譜層析掃描儀、非接觸光學(xué)測(cè)厚儀、微量紫外分光光度計(jì)、物質(zhì)分析儀和高功率鹵素冷光源等。標(biāo)旗科思凱系列產(chǎn)品儀器優(yōu)勢(shì)顯著,具有高效、迅速、準(zhǔn)確的特點(diǎn),將“中國(guó)創(chuàng)造”的研發(fā)理念與攻關(guān)思路融入到每項(xiàng)產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)中,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品應(yīng)用與科技進(jìn)步、市場(chǎng)需求緊密結(jié)合,不斷突破傳統(tǒng)技術(shù),實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)升級(jí)改造,實(shí)現(xiàn)理論研究與生產(chǎn)應(yīng)用的轉(zhuǎn)化,真正將創(chuàng)造力作為公司不斷向前發(fā)展的核心動(dòng)力,將中國(guó)創(chuàng)造內(nèi)化于企業(yè)發(fā)展中。

    同時(shí),標(biāo)旗也是許多科技裝備企業(yè)在國(guó)內(nèi)的*的代理商和經(jīng)銷(xiāo)商,包括:Ocean Optics光纖光譜儀(華南區(qū)總代理),PerkinElmer分析儀器、P&P成像光譜儀。

    標(biāo)旗秉承專(zhuān)業(yè)、真誠(chéng)、貼心的服務(wù)宗旨,針對(duì)客戶(hù)的需求,量身定制光譜檢測(cè)應(yīng)用方案,幫助客戶(hù)解決科研和生產(chǎn)中的實(shí)際問(wèn)題,全程提供售前、售中和售后服務(wù)。標(biāo)旗的成長(zhǎng)離不開(kāi)客戶(hù)的支持,目前,公司積累了豐富的技術(shù)和客戶(hù)資源,積極與高校合作,致力于產(chǎn)學(xué)研的成長(zhǎng)模式;而且努力為同行業(yè)者搭建線(xiàn)上和線(xiàn)下交流平臺(tái),向客戶(hù)學(xué)習(xí),更好的服務(wù)于客戶(hù)。

    科技的發(fā)展日新月異,標(biāo)旗緊跟科技進(jìn)步與時(shí)代發(fā)展的步伐,在光譜快速檢測(cè)道路上不斷前行,臻于至善。

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    NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)
    NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

    NanoCalc 薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)

    薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)可以用來(lái)進(jìn)行10nm~250µm的膜厚分析測(cè)量,對(duì)單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測(cè)量軟件的不同,可以分析單層或多層膜厚。

    特點(diǎn)

    • 可分析單層或多層薄膜

    • 分辨率達(dá)0.1nm

    • 適合于在線(xiàn)監(jiān)測(cè)

    操作理論

    的兩種測(cè)量薄膜的特性的方法為光學(xué)反射和投射測(cè)量、橢圓光度法測(cè)量。NanoCalc利用反射原理進(jìn)行膜厚測(cè)量。

    查找n和k值

    可以進(jìn)行多達(dá)三層的薄膜測(cè)量,薄膜和基體測(cè)量可以是金屬、電介質(zhì)、無(wú)定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫(kù),用戶(hù)也可以自己添加和編輯。

    應(yīng)用

    NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線(xiàn)膜厚和去除率測(cè)量,包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類(lèi)型的薄膜。NanoCalc也可測(cè)量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。

    NanoCalc系統(tǒng)

    NC-UV-VIS-NIR

    重量:

    250-1100nm

    厚度:

    10nm-70µm

    光源:

    氘鹵燈

    NC-UV-VIS

    重量:

    250-850nm

    厚度:

    10nm-20µm

    光源:

    氘鹵燈

    NC-VIS-NIR

    重量:

    400-1100nm

    厚度:

    20nm-100µm (可選1µm-250µm)

    光源:

    鹵燈

     

    NC-VIS

    重量:

    400-850nm

    厚度:

    50nm-20µm

    光源:

    鹵燈

    NC-NIR

    重量:

    650-1100nm

    厚度:

    70nm-70µm

    光源:

    鹵燈

    NC-NIR-HR

    重量:

    650-1100nm

    厚度:

    70nm-70µm

    光源:

    鹵燈

    NC-512-NIR

    重量:

    900-1700 nm

    厚度:

    50nm-200µm

    光源:

    高亮度鹵燈

    NanoCalc規(guī)格

    入射角

    90°

    層數(shù)

    3層以下

    需要進(jìn)行參考值測(cè)量

    透明材料

    傳輸模式

    粗糙材料

    測(cè)量速度

    100ms - 1s

    在線(xiàn)監(jiān)測(cè)

    可以

    公差(高度)

    參考值測(cè)量或準(zhǔn)直(74-UV)

    公差(角度)

    參考值測(cè)量

    微黑子選項(xiàng)

    配顯微鏡

    顯示選項(xiàng)

    配顯微鏡

    定位選項(xiàng)

    6"和12" XYZ 定位臺(tái)

    真空

    可以

    關(guān)鍵詞:顯微鏡
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