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    NE-PE60F等離子體表面處理設備

    參考價
    面議
    具體成交價以合同協議為準
    • 型號
    • 品牌
    • 所在地深圳市
    • 更新時間2023-05-24
    • 廠商性質生產廠家
    • 所在地區深圳市
    • 實名認證已認證
    • 產品數量33
    • 人氣值813
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    納恩科技總部位于深圳市南山區,在香港設有研發分公司,公司專注 于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術研發,目前主要產品包括真空 等離子磁控濺射鍍膜設備,離子濺射儀,等離子刻蝕設備,等離子表 面處理設備,輝光放電儀等。 

     

    公司核心研發團隊來源于香港大學等離子實驗室,香港理工大學材料 工程學院和美國佐治亞理工學院的微電子學院。自成立以來,納恩科 技圍繞等離子處理系統所需核心電源及底層算法進行技術布局,不斷 拓展自主設計能力。目前已完成以MCU,ARM為核心的射頻芯片開 發平臺,實現了芯片的結構化和模塊化開發。 具有高精度模擬、網絡 阻抗匹配、功率驅動、功率器件、射頻和底層核心算法的設計能力, 可針對不同細分領域等離子處理系統需求,快速做出底層硬件組合, 提高等離子系統的穩定性和效率。

     

    納恩科技成立至今已為清華大學、香港大學、華為2012實驗室、北京大學、中科院、南方科技大學、美國康奈爾大學、賓夕法尼亞大學、等中外眾多有名企業、大學研究機構提供過等離子外理設備和解決方案,并專注于發展面向未來新材料市場的應用技術,助力客戶開發出激動人心的新工藝!

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    產品簡介:等離子體表面處設備是利用等離子體中的能量粒子和活性粒子與高分子表面發生作用,以達···
    NE-PE60F等離子體表面處理設備 產品詳情

    NE-PE60F等離子體表面處理設備由供氣控制單元、真空室、射頻等離子發生器、匹配器、真空泵等部分組成,本處理機采用電容耦合的內部電極放電結構。當上電極接入射頻功率時,上下電極之間交替發射的電子,經過電場加速之后撞擊低真空環境中的氣體分子。氣體分子由于受到高速電子的撞擊而發生電離。射頻放電是一種在低溫低氣壓狀態下的放電技術,使用射頻放電可獲得電離度與密度較大的等離子體。

    產品參數:

    產品型號NE-PE60F等離子體表面處理設備
    功率500W/1000W(可選)
    頻率13.56MHz(自動阻抗匹配)
    腔體材質316 鏡面不銹鋼
    腔體容積60L
    腔體尺寸400(W)*450(D)*370(H)mm
    電極板數量6層
    氣路數量2路工藝氣體通道,可自由選擇各種工藝氣體
    工作真空度<30Pa
    外形尺寸900mm(L)×960mm(W) ×1750 mm(H)

    產品特點:

    ?不銹鋼托盤設計,可調節托盤間距

    ?8K鏡面不銹鋼腔體,密封性

    ?13.56射頻等離子發生器,產生高密度等高子體,確保出眾的清洗效果;

    ?直觀的觸摸屏,過程參數實時監控。

    ?方便的定期校準設備連接驗證過程中使用的要求

    ?支持各種工藝氣體,包括氬氣,氧,氫,氦和氟化氣體

    ?通過聯鎖門或可移動的板

    ?高精度氣體流量監測系統,兩路工藝氣體配置(氬氣、氧氣),雙路氣流控制,比例可調,采用高精度電子質量流量計(MFC)、針閥、美國世維洛克氣體管路。

    等離子體表面處理原理:

    等離子體表面處理設備是利用等離子體中的能量粒子和活性粒子與高分子表面發生作用,以達到改變表面成分的目的。對塑料、纖維、高分子薄膜等能有效地改善其表面特性以適合各種用途。無論惰性氣體等離子體還是活性氣體等離子體的表面處理都能有效地使高分子材料表面層產生大量自由基,在經等離子體活化而生成的表面自由基位置,能進一步加成特定官能團。高分子表面的等離子體處理主要包括以下幾方面內容。用He、Ar和H2等惰性氣體等離子體對高分子表面進行轟擊,使其表面產生緊密的交聯層;用O2、N2、CO、CO2和H2O等活性氣體等離子體與材料表面發生作用,以改變材料表面的化學成分;在高分子表面進行等離子體接枝;在高分子表面沉積超薄的等離子體聚合膜;高分子表面圖案化及自組裝。

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