美國NANOVEA公司的微納米力學測試系統(tǒng)是集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀四個功能模塊于一身，儀器采用模塊化設計，可在一款儀器下實現(xiàn)納米與微米/大載荷三個尺度下的壓痕，劃痕與摩擦磨損測試，進而可得到硬度、彈性模量、蠕變信息、彈塑性、斷裂韌度、應力-應變曲線、膜基結(jié)合力、劃痕硬度、摩擦系數(shù)、磨損率等微觀力學數(shù)據(jù)。
產(chǎn)品特性：
- 模塊化設計：可在一臺儀器集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀4種儀器。
- 壓痕測試*符合國際ISO14577與美國ASTM E2546標準，劃痕測試*符合ISO 20502、1518、ASTM
D7027、D1624、D7187、C171標準。
- 載荷加載系統(tǒng)：采用閉環(huán)載荷加載垂直加載，準確性遠遠優(yōu)于傳統(tǒng)的開環(huán)載荷加載技術(shù)及懸臂加載技術(shù)，可保證施加載荷的精準性。
- 載荷驅(qū)動方式：高精度壓電陶瓷驅(qū)動，精度遠遠優(yōu)于電磁力驅(qū)動。
- NANOVEA技術(shù)（號：EP0663068 A1 1995）高精度電容式傳感器來能夠保證系統(tǒng)夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測量可保證壓入深度與劃入深度實時測量。
- 采用encoder高精度光柵尺樣品臺，定位精度可達250nm以內(nèi)。
- *的熱飄逸控制技術(shù)：納米壓痕儀的熱飄逸為<0.05nm>
- 劃痕具有全景成像模式
- NANOVEA公司金剛石面積函數(shù)校準技術(shù)（號：No. 3076153）只需要壓一次就可以對針尖面積函數(shù)進行校準實現(xiàn)精確測量。
主要技術(shù)參數(shù)：
1）納米壓痕儀：
— 靜態(tài)加載模式加載載荷：80mN /400mN/1800mN/4800mN
— 動態(tài)加載模式DMA:0.1-100Hz
— 載荷分辨率：3nN
— 可實現(xiàn)的最小載荷：0.1mN
— 加載速率：0.04-12000mN/min
— 壓入深度（電容傳感器）： 250μm/1mm
— 位移分辨率：0.0003nm
— 快速壓痕功能：做100個mapping點只需5分鐘
— 熱飄逸<0.05nm>室溫條件下)
2）納米劃痕儀：
— 劃痕正向力載荷：80mN /400mN/1800mN/4800mN
— 載荷分辨率：3nN
— 劃痕正向力最小載荷：0.1mN
— 劃痕深度：250µm/1mm
— 劃痕長度：50mm
— 劃痕速度：0.05-600mm/min
— 位移分辨率：0.0003nm
— 深度：250μm/1mm
— 深度分辨率：0.0003nm
— 摩擦力：400mN/1800mN
— 摩擦力分辨率：7μN
3）微米壓痕儀：
— 加載載荷：40N/200N
— 載荷分辨率：2.4μN /12μN
— 載荷噪聲水平（RMS）：0.1mN/0.5mN
— 可實現(xiàn)的最小載荷：2mN/10mN
— 加載速率：0.01-500N/min / 0.05-1000N/min
— 快速壓痕功能：做100個mapping點只需12分鐘
— 深度范圍（電容式傳感器）：1mm
— 深度分辨率：0.01nm
— 深度分噪聲水平（RMS）: 0.5nm
4）微米劃痕儀：
— 劃痕正向力載荷：40N/200 N
— 劃痕正向力最小載荷：2mN/10mN
— 劃痕深度：1mm
— 深度分辨率：0.01nm
— 深度分噪聲水平（RMS）: 0.5nm
— 劃痕長度：50mm
— 劃痕速度：0.1-1200mm/min
— 摩擦力：20N/200N
— 摩擦力分辨率：1.3mN/13mN
5）精密定位平臺：
— XY方向移動范圍：150mm*150mm
— Z方向允許的樣品空間：150mm
— 工作臺XY方向定位分辨率：10nm
— 工作臺XY方向定位精度：250nm
— Z方向可自動移動移動范圍：50mm
6）光學金相顯微鏡成像系統(tǒng)：
— 物鏡的放大倍率分別為：5X，10X，20X，50X，1000X
— 總的放大倍率分別為：400X，800X，1600X，4000X，8000X，
7）原子力顯微鏡AFM的技術(shù)參數(shù)（高分辨率）：
— XYZ方向掃描范圍：100µm *100µm *12µm
— XY方向移動分辨率：0.1nm
— Z方向的測量分辨率：0.02nm
