島津KRATOS高性能成像X射線光電子能譜儀 AXIS SUPRA*
X射技光電子能酒悅作為客種材料的化學狀態毋析慢器，可以難確地確走材料泰言元囊的化學狀態。被廣泛應用于各種低婚新材料、姚米材料和表面科學的研究中。
AXI5 SUFRA屋島津Kra的新研發出的一款高湍X射線光電子能蘧愎，兼備高分腩茱譜和快進甲行霞像動能，具備高"量分憂,高靈都度,高空間勞精的特點。
-杰出的薪電中和技術輕粒分析不同類型樣品
-高功豐文射版源保證低含量元素測定
–雙屆能量分析圈喁保高某集效率和瞌像空間分熱車·多模式離子添實理從超薄到超厚的分糲
–豐畜的靈活性可以拓醫多種酎忡和表面分斷技術
主要用途
XPS：固體樣品的表面組成分析，化學狀態分析，取樣訊息深度為～10nm以內. 功能包括:
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊。
2. 維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學態的深度分析（角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式）
3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學態分布。
4. 成像功能。
5. 可進行樣品的原位處理 AES：1.可進行樣品表面的微區選點分析（包括點分析，線分析和面分析） 2.可進行深度分析適合： 納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學，高分子材料的表面和界面研究
