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    土壤中氡濃度及土壤表面氡析出率測(cè)定

    來(lái)源:上海何亦儀器儀表有限公司   2020年06月26日 10:55  

    土壤中氡濃度及土壤表面氡析出率測(cè)定

    D.1 土壤中氡濃度測(cè)定

    D.1.1 一般原則:土壤中氡濃度測(cè)量的關(guān)鍵是如何采集土壤中的空氣。土壤中氡氣的濃度一般大于數(shù)百Bq/m3,這樣高的氡濃度的測(cè)量采用電離室法、靜電收集法、閃爍瓶法、金硅面壘型探測(cè)器等方法進(jìn)行測(cè)量。

    D.1.2 測(cè)試儀器性能指標(biāo)要求:

    工作條件:溫度-10~40℃

    相對(duì)濕度≤90%;

    不確定度≤20%;

    探測(cè)下限≤400Bq/m3。

    D.1.3 測(cè)量區(qū)域范圍應(yīng)與工程地質(zhì)勘察范圍相同。

    D.1.4 在工程地質(zhì)勘察范圍內(nèi)布點(diǎn)時(shí),應(yīng)以間距10m 作網(wǎng)格,各網(wǎng)格點(diǎn)即為測(cè)試點(diǎn) (當(dāng)遇較大石塊時(shí),可偏離±2m),但布點(diǎn)數(shù)不應(yīng)少于16 個(gè)。布點(diǎn)位置應(yīng)覆蓋基礎(chǔ)工程范圍。

    D.1.5 在每個(gè)測(cè)試點(diǎn),應(yīng)采用鋼釬打孔。孔的直徑宜為20~40mm,孔的深度宜為600~800mm。

    D.1.6 成孔后,應(yīng)使用頭部有氣孔的特制的取樣器,插入打好的孔中,取樣器在靠近地表處應(yīng)進(jìn)行密閉,避免大氣滲入孔中,然后進(jìn)行抽氣。正式現(xiàn)場(chǎng)取樣測(cè)試前,應(yīng)通過(guò)一系列不同抽氣次數(shù)的實(shí)驗(yàn),確定******抽氣次數(shù)。

    D.1.7 所采集土壤間隙中的空氣樣品,宜采用靜電擴(kuò)散法、電離室法或閃爍瓶法、金硅面壘型探測(cè)器等測(cè)定現(xiàn)場(chǎng)土壤氡濃度。

    D.1.8 取樣測(cè)試時(shí)間宜在8:00~18:00 之間,現(xiàn)場(chǎng)取樣測(cè)試工作不應(yīng)在雨天進(jìn)行,如遇雨天,應(yīng)在雨后24h 后進(jìn)行。

    D.19 現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試應(yīng)有記錄,記錄內(nèi)容包括:測(cè)試點(diǎn)布設(shè)圖,成孔點(diǎn)土壤類(lèi)別,現(xiàn)場(chǎng)地表狀況描述,測(cè)試前24h 以?xún)?nèi)工程地點(diǎn)的氣象狀況等。

    D.1.10 地表土壤氡濃度測(cè)試報(bào)告的內(nèi)容應(yīng)包括:取樣測(cè)試過(guò)程描述、測(cè)試方法、土壤氡濃度測(cè)試結(jié)果等。

    D.2 土壤表面氡析出率測(cè)定

    D.2.1 儀器設(shè)備。

    土壤表面氡析出率測(cè)量所須儀器設(shè)備包括取樣設(shè)備、測(cè)量設(shè)備。取樣設(shè)備的形狀為盆狀,工作原理分為被動(dòng)收集型和主動(dòng)抽氣采集型兩種。現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量設(shè)備須滿(mǎn)足以下工作條件要求:

    溫度:-10~40℃;

    相對(duì)濕度:≤90%;

    不確定度:≤20%;

    探測(cè)下限:≤0.01Bq/m2.S 。

    D.2.2 測(cè)量步驟。

    按照“D.1 土壤中氡濃度測(cè)定”的要求,首先在建筑場(chǎng)地按20m×20m網(wǎng)格布點(diǎn),網(wǎng)格點(diǎn)交叉處進(jìn)行土壤氡析出率測(cè)量 。

    測(cè)量時(shí),須清掃采樣點(diǎn)地面,去除腐殖質(zhì)、雜草及石塊,把取樣器扣在平整后的地面上,并用泥土對(duì)取樣器周?chē)M(jìn)行密封,防止漏氣,準(zhǔn)備就緒后,開(kāi)始測(cè)量并開(kāi)始計(jì)時(shí)(t)。

    土壤表面氡析出率測(cè)量過(guò)程中,應(yīng)注意控制下列幾個(gè)環(huán)節(jié):

    1 使用聚集罩時(shí),罩口與介質(zhì)表面的接縫處應(yīng)當(dāng)封堵,避免罩內(nèi)氡向外擴(kuò)散(一般情況下,可在罩沿周邊培一圈泥土,即可滿(mǎn)足要求)。對(duì)于從罩內(nèi)抽取空氣測(cè)量的儀器類(lèi)型來(lái)說(shuō),必須更加注意。

    2 被測(cè)介質(zhì)表面應(yīng)平整,保證各個(gè)測(cè)量點(diǎn)過(guò)程中罩內(nèi)空間的體積不出現(xiàn)明顯變化。

    3 測(cè)量的聚集時(shí)間等參數(shù)應(yīng)與儀器測(cè)量靈敏度相適應(yīng),以保證足夠的測(cè)量準(zhǔn)確度。

    4 測(cè)量應(yīng)在無(wú)風(fēng)或微風(fēng)條件下進(jìn)行。

    D.2.3 結(jié)果計(jì)算(使用聚集罩情況)。

    用下述公式求被測(cè)地面的氡析出率:

     

    (D.2.3)式中 R——土壤表面氡析出率(Bq/m2.s);

    Nt——t時(shí)刻測(cè)得的罩內(nèi)氡濃度(Bq/m3);

    V——聚集罩所罩信的介質(zhì)表面的面積(m2);

    t——測(cè)量經(jīng)歷的時(shí)間(s)

    D.3 城市區(qū)域性土壤氡水平調(diào)查方法

    D.3.1 測(cè)點(diǎn)布置

    在城市區(qū)域按2km×1km網(wǎng)格布置測(cè)點(diǎn),部分中小城市按1km×1km網(wǎng)格布置測(cè)點(diǎn)。因地形、建筑等原因測(cè)點(diǎn)位置偏移,但不超過(guò)200m。

    每個(gè)城市測(cè)點(diǎn)數(shù)量在100個(gè)左右。

    盡量使用1:5萬(wàn)~1:10萬(wàn)(或更大比例尺)地形(地質(zhì))圖和衛(wèi)星定位儀(GPS),確定測(cè)點(diǎn)位置并在圖上標(biāo)注。

    D.3.2 調(diào)查方法

    調(diào)查前應(yīng)制訂方案,準(zhǔn)備好測(cè)量?jī)x器和其他工具。儀器在使用前必須進(jìn)行標(biāo)定,如使用兩臺(tái)或兩臺(tái)以上儀器進(jìn)行調(diào)查,所用儀器同時(shí)進(jìn)行標(biāo)定,以保證儀器量值的一致性。

    測(cè)點(diǎn)定位:調(diào)查測(cè)點(diǎn)位置用GPS定位,同時(shí)對(duì)地理位置進(jìn)行簡(jiǎn)要描述。

    測(cè)量深度:調(diào)查打孔深度統(tǒng)一定為500~800m,孔徑20~40mm。

    測(cè)量次數(shù):每一測(cè)點(diǎn)應(yīng)重復(fù)測(cè)量3次,以算術(shù)平均值作為該點(diǎn)氡濃度。(或每一測(cè)點(diǎn)在3m2范圍內(nèi)打三個(gè)孔,每孔測(cè)一次求平均值)。

    其他測(cè)量要求(如天氣)和測(cè)量過(guò)程中需要記錄的事項(xiàng)按本附錄D.1執(zhí)行。

    D.3.3 調(diào)查的質(zhì)量保證。

    儀器使用前應(yīng)按儀器說(shuō)明書(shū)檢查儀器穩(wěn)定性(如測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)α源、電路自檢等方法)。

    使用兩臺(tái)以上的儀器工作時(shí)應(yīng)檢查儀器的一致性,一般兩臺(tái)儀器測(cè)量結(jié)果的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差應(yīng)小于25%。

    應(yīng)挑選10%左右測(cè)點(diǎn)進(jìn)行復(fù)查測(cè)量,復(fù)查測(cè)量結(jié)果應(yīng)一并反映在測(cè)量原始數(shù)據(jù)表中。

    D.3.4 測(cè)量報(bào)告。

    城市區(qū)域土壤氡調(diào)查報(bào)告的主要內(nèi)容應(yīng)包括:

    1 城市地質(zhì)概況、放射性本底概況、土壤概況;

    2 測(cè)點(diǎn)布置說(shuō)明及測(cè)點(diǎn)分布圖;

    3 測(cè)量?jī)x器、方法介紹;

    4 測(cè)量過(guò)程描述;

    5 測(cè)量結(jié)果。包括原始數(shù)據(jù)、平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差等,如有可能繪制城市土壤濃度等值線圖。

    6 測(cè)量結(jié)果的質(zhì)量評(píng)價(jià)(儀器的日常穩(wěn)定性檢查、儀器的標(biāo)定和比對(duì)工作、儀器的質(zhì)量監(jiān)控圖制作)。

     

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