磁控濺射卷繞鍍膜設備，其工作原理與特點如下：
采用磁控濺射（直流、中頻、射頻）方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進行單層或多層鍍膜。適合在柔性基材上鍍制各種介質膜（SiO2,Si3N4,Al2O3,SnO2,ZnO,Ta2O5等）,導電膜（ITO,AZO）,AR減反膜,HR
高反膜、低輻射Low-E膜,合金膜和金屬膜（Al,Cr,Cu,Fe,Ni,SUS不銹鋼,TiAl等）
柔性線路板卷繞鍍膜設備
磁控濺射卷繞鍍膜設備，其工作原理與特點如下：
采用磁控濺射（直流、中頻、射頻）方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進行單層或多層鍍膜。適合在柔性基材上鍍制各種介質膜(SiO2,Si3N4,Al2O3,SnO2,ZnO,Ta2O5等),導電膜（ITO,AZO）,AR減反膜,HR
高反膜、低輻射Low-E膜,合金膜和金屬膜（Al,Cr,Cu,Fe,Ni,SUS不銹鋼,TiAl等）。
主要應用于：柔性線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容、汽車/火車/輪船等貼膜、薄膜太陽能電池、柔性太陽能電池FPD平板顯示，柔性顯示器件等方面。
磁控濺射卷繞鍍膜設備一般由不銹鋼真空室體、卷繞系統、冷溫媒裝置、充氣系統、平面或柱狀磁控濺射源,電源,真空系統、水冷系統、在線檢測裝置、電控部分及其輔助裝置等組成
平面磁控卷繞系列鍍膜設備
平面磁控卷繞系列鍍膜設備主要用于高檔包裝、裝飾、觸摸屏、場效發光、防輻射、隔熱防霜等領域。設備具有基材收卷整齊無劃傷、靶材利用率高、充氣系統出氣均勻、結構合理、性能穩定、操作方便等特點。用磁控卷繞系列鍍膜設備可鍍ITO膜，電容器膜，low-E膜等。隨著鍍膜工藝技術的不斷開發，它將更廣泛地應用于其它領域。
蒸發系列真空卷繞鍍膜設備
蒸發系列卷繞鍍膜設備主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業等領域。本系列設備具有運行平穩、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩定等特點。
結構特點
1、卷饒系統采用高精度支流或交流變頻調速，具有運行平穩、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面征集等特點；
2、張力控制采用進口數字張力控制系統，具有張力、線速度恒定，動作快速的特點；
3、各組送絲由微機電機獨立控制，可總調或單獨調速，并有速度顯示；
4、真空系統配置精良，抽氣速度快，采用PLC控制；
5、配備大功率電源，鍍膜效率高，膜層均勻性好。
廣東振華科技有限公司
李偉
