環(huán)境監(jiān)測(cè) 企業(yè)無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)點(diǎn)位的布設(shè)

環(huán)境監(jiān)測(cè) 企業(yè)無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)點(diǎn)位的布設(shè)

據(jù)調(diào)查了解，大多數(shù)工業(yè)企業(yè)或多或少都存在污染物的無(wú)組織排放。而大部分鋼鐵、水泥、有色、礦產(chǎn)開采等行業(yè)，由于工藝流程不夠先進(jìn)、生產(chǎn)方式落后粗放等原因，導(dǎo)致無(wú)組織排放，是污染物無(wú)組織排放的重點(diǎn)污染行業(yè)。因此，為加強(qiáng)企業(yè)無(wú)組織排放深度治理，提高無(wú)組織排放管控的科學(xué)性、針對(duì)性和有效性，促進(jìn)環(huán)境空氣質(zhì)量改善，針對(duì)企業(yè)進(jìn)行無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)已成為必然趨勢(shì)。

說(shuō)到監(jiān)測(cè)，首先考慮的除監(jiān)測(cè)產(chǎn)品外還需注意監(jiān)測(cè)點(diǎn)位的選擇，但鑒于無(wú)組織排放不同于有組織排放，有固定的排放點(diǎn)，且無(wú)組織排放的廢氣排放源存在分布特點(diǎn)以及污染物的排放特性比較復(fù)雜等特點(diǎn)，因此企業(yè)無(wú)組織點(diǎn)位的正確布設(shè)是取得“科學(xué)依據(jù)"的關(guān)鍵。

部分企業(yè)無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)點(diǎn)位的布設(shè)可參考如下內(nèi)容：

（一）園區(qū)的無(wú)組織監(jiān)測(cè)點(diǎn)位多布設(shè)在園區(qū)邊界。因此，根據(jù)企業(yè)工藝分散、占地面積大、無(wú)組織排放種類多、周圍環(huán)境影響因素復(fù)雜等特點(diǎn)，采取將企業(yè)整個(gè)廠區(qū)視為一個(gè)無(wú)組織排放的污染面源來(lái)對(duì)待，以廠界為邊界進(jìn)行監(jiān)測(cè)布點(diǎn)的原則。根據(jù)企業(yè)廠界外實(shí)際情況，在廠界四周預(yù)設(shè) 點(diǎn)位，保證在各種風(fēng)向條件下均能夠有 1 個(gè)背景點(diǎn)位（在主要污染源上風(fēng)向 2 ～ 50m 處），下風(fēng)向廠界外 2 ～ 50m 范圍內(nèi)按《大氣污染物無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)技術(shù)導(dǎo)則》（HJ/T55—2000）中規(guī)定的方法，按扇形分布特點(diǎn)共布設(shè) 3個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)，保證企業(yè)在正常生產(chǎn)工況下監(jiān)測(cè)，避免企業(yè)停產(chǎn)或者設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)期。在此基礎(chǔ)上，監(jiān)測(cè)點(diǎn)位的布設(shè)應(yīng)避免周圍影響因素較多的位置，如周圍建筑物或者廠界外墻過(guò)高處、人流密集活動(dòng)頻繁處等。

（二）若無(wú)組織排放源可以作為一個(gè)點(diǎn)源來(lái)看待，即不需要考慮排放源的高度、大小和形狀，距邊界有一定距離，且圍墻通透性較好，不阻礙污染物的擴(kuò)散時(shí)，監(jiān)控點(diǎn)設(shè)置在排放源下風(fēng)向廠界外10m范圍內(nèi)，最多設(shè)置4個(gè)監(jiān)控點(diǎn)。若排放源滿足點(diǎn)源條件，但圍墻通透性差，影響污染物的擴(kuò)散時(shí)，可緊靠圍墻將采氣口伸至圍墻上方20～30cm處采樣；亦可將采樣點(diǎn)移至距圍墻高度1.5～2倍，距地1.5m處采樣，此時(shí)仍不應(yīng)超過(guò)廠界外10m范圍。若排放源緊靠圍墻，且排放源比圍墻高，風(fēng)向吹向緊靠的圍墻外時(shí)，需要考慮最大濃度落地點(diǎn)。此時(shí)監(jiān)控點(diǎn)不受廠界外10m的限制。

（三）工業(yè)爐窯等企業(yè)無(wú)組織排放多為煙塵、生產(chǎn)性粉塵和有害污染物不通過(guò)煙囪或排氣系統(tǒng)的泄漏，因此，若排放源在廠房?jī)?nèi)，則無(wú)組織排放煙塵及生產(chǎn)性粉塵監(jiān)測(cè)點(diǎn)可設(shè)置在廠房門窗排放口處，并選擇濃度最大值；若排放源為露天的，則無(wú)組織監(jiān)測(cè)點(diǎn)應(yīng)選在距煙（粉）塵排放源5m，高度1.5m處任意點(diǎn)。每個(gè)監(jiān)控點(diǎn)連續(xù)采集時(shí)間為1～4h/次，總采樣時(shí)間為4h；選取監(jiān)控點(diǎn)1h均值的最大濃度值。