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高溫超導薄膜的單晶基片LaAlO3

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高溫超導薄膜的單晶基片LaAlO3

鋁酸鑭（LaAlO3）單晶是當前zui重要的工業化、大尺寸高溫超導薄膜基片單晶材料。它用提拉法生長，可以得到直徑2英吋及更大的單晶和基片。它與YBaCuO等高溫超導材料和晶格匹配好，介電常數較低，微波損耗小，因而適于制作高溫超導微波電子器件（如遠程通訊中的高溫超導微波濾波器等）。有巨大的現實及潛在的應用前景。

晶體主要參數:

晶系	贗立方晶系黃銅礦Pm3m
晶格常數（）	a=3.790
熔點（℃）	2100
密度（g/cm3）	6.50
比熱（cal/g℃）
莫氏硬度	6-6.5
熱膨脹系數（/℃）	9.4x10-6
介電常數	εr= 21
特點	適于微波電子器件
生長方法	提拉法

基片規格：

尺寸:	10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20，
尺寸:	Ф15,Ф20，Ф1″，Ф2″,Ф2.6″
厚度:	0.5mm，1.0mm
表面拋光:	單面或雙面
取向：	＜100＞＜110＞＜111＞
晶面定向精度:	±0.5°
邊緣定向精度:	2°（特殊要求可達1°以內）
斜切晶片：	可按特定需求，加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜（傾斜角1°－45°）的晶片
Ra:	≤5Å（5µm×5µm）

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