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    技術文章

    四氯化硅雜質分析專用分析系統

    閱讀:15發布時間:2025-5-31

    四氯化硅為有機化合物,主要用于化學工業及生產。高純SiCl4是生產石英通信光纖的主要原料,也是國內外多年來生產電子級多晶硅的基本原料,但對四氯化硅的純度要求較高。



      生產工藝決定了產品中的雜質成分復雜,因此需要一套行之有效的分析方法分析四氯化硅產品的純度。對四氯化硅中的金屬雜質、硅含量及其中有機雜質成分進行分析,采用傅立葉紅外光譜儀定性分析了四氯化硅中有機雜質官能團,設計的一套密封取樣裝置有效避免了四氯化硅的水解等,提供了一種簡單有效的四氯化硅分析方法。


    系統介紹

      主機采用德國布魯克款傅里葉紅外光譜儀:德國布魯克光譜儀器公司的TENSOR II型紅外光譜儀被國內外的生產四氯化硅行業當作是一款標準的設備。它是分區密封的光學臺,對四氯化鈦水解氣體的危害有非常好的防護作用。在儀器構造上由于采用無動態偏差的干涉儀、數字化檢測器、網絡化接口和自動校驗等技術,使得儀器工作更穩定、定量精度更高。TENSOR II 是同類臺式研究級紅外光譜儀中采用的二極管激光器的譜儀。此外,TENSOR II 的紅外光源增設了一個全新的電子穩壓處理功能。這些創新極大延長了紅外光譜儀上兩個主要易損部件的使用壽命,同時降低了您的維護成本和耗時。


    儀器特點:

    儀器具有靈敏度高,所有反射鏡均為鍍金鏡子,耐環境性能優; 儀器穩定,抗震性能優,采用90°角鏡,入射光與反射光永遠平行; 智能化程度高,能對儀器的各部分進行檢測,同時給出測試報告;儀器內部有校驗系統,對波數的精度、準確度,透光率的精度、準確度以及信噪比進行測量。

    系統除紅外光譜儀器外,為保證樣品隔離空氣的情況下,采取在線或離線裝取樣品,并在經過紅外光譜儀器分析測量以后,再安全地將樣品排除出去。特制的氣體取樣裝置,帶流量控制的氣體池,專用四氯化硅分析測試系統等。


    更多儀器資料請查看 http://www.king-ber。。com/Product_Show.asp?ID=930
    相關技術問題:


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