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桌面式高溫蒸鍍儀

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參考價:38600

具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號
KT-Z1650CVD
品牌
其他品牌
廠商性質
生產商
所在地
鄭州市

規(guī)格

臺 38600元 66臺可售

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更新時間：2025-01-13 09:53:40瀏覽次數：162次

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鄭州市金水區(qū)智研實驗室設備經營部（個體工商戶）

經營模式：生產廠家

商鋪產品：198條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：張正敏（銷售）

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產品簡介

產地	國產	加工定制	是

桌面式高溫蒸鍍儀：KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

詳細介紹

桌面式高溫蒸鍍儀：

是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。

真空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠

低于基板溫度遠低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉變過程。

桌面式高溫蒸鍍儀：技術參數

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）