鄭州市金水區智研實驗室設備經營部（個體工商戶）
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<ul id="qqie6"></ul> 鄭州市金水區智研實驗室設備經營部（個體工商戶）
| 產地 | 國產 | 加工定制 | 是 |
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小型直流式磁控濺射儀：KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度可調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
小型直流式磁控濺射儀：離子濺射儀為一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。
*外形小巧方便移動
*觸摸屏控制，工藝記憶儲存方便鍍相同樣品
*自動化電動擋板，能自動打開關閉，保證鍍樣時間和保護樣品
*石英＋不銹鋼腔體，方便觀察和清洗
小型直流式磁控濺射儀 技術參數：
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
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