激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗腐蝕材料實施變劑量曝光，顯影后在抗腐蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓，激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計的任意圖形，從而把設(shè)計圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。

激光直寫系統(tǒng)基本原理結(jié)構(gòu)

激光直寫系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)如圖1所示，主要由He-Cd激光器、聲光調(diào)制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機、顯示器、照明光源、工作臺、調(diào)焦裝置、He-Ne激光干涉儀和控制計算機等部分構(gòu)成。

圖1 激光直寫系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡圖

激光直寫的基本工作流程是：用計算機產(chǎn)生設(shè)計的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩模結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)；將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù)，由計算機控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光；經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計圖形傳遞到基片上。

激光直寫系統(tǒng)現(xiàn)有技術(shù)存在的問題

機械誤差：光刻過程是指放置在電動平臺上的光刻膠基片隨著電動平臺的轉(zhuǎn)動和平移，由聲光調(diào)制器控制光束的強弱對光刻膠進行變劑量曝光，通常電動平臺的定位精度達(dá)到微米或亞微米量級。然而由于慣性、靜摩擦、松動等所造成的電動平臺螺距誤差與偏移，將直接影響著系統(tǒng)的性能和光刻元件的質(zhì)量。如何提升實現(xiàn)平臺的高精度定位是激光直寫技術(shù)中需要考慮的問題。

芯明天壓電納米定位平臺采用柔性鉸鏈機構(gòu)，鉸鏈機構(gòu)基于固體的彈性變形，無滾動和滑動部分，具有零摩擦、高精度的特點，并且具有很高的剛度和承載能力。更重要的是，芯明天壓電納米定位臺的定位精度可達(dá)納米級甚至亞納米級。

芯明天壓電納米定位平臺以其納米級的精度、穩(wěn)定的性能、便捷的操控成為掃描運動平臺的理想選擇。

芯明天壓電掃描臺簡介

P12A系列壓電掃描臺

運動自由度：XYZ

行程：100μm/軸

分辨率：7/4nm

中心通孔：45×45mm

承載能力：0.5kg

P15系列壓電掃描臺

運動自由度：XYZ

行程：300μm/軸

分辨率：13/6nm

中心通孔：66×66mm

承載能力：0.5kg

P17.XY200系列壓電掃描臺

運動自由度：XY

行程：187.5μm/軸

分辨率：8/5nm

中心通孔：60×60mm

承載能力：1kg

P78.Z200/300系列壓電掃描臺

運動自由度：Z

行程：187.5μm/262.5μm

分辨率：7/3nm

中心通孔：64×64mm

承載能力：1kg

為了壓電納米定位臺與您系統(tǒng)間更好的融合，芯明天公司提供定制服務(wù)，可按客戶應(yīng)用的系統(tǒng)進行量身定制。