CVD系統(tǒng)應(yīng)用：CVD是化學(xué)氣相沉積的英文簡(jiǎn)寫(xiě)，本公司生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)是利用管式爐加熱，把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入爐管內(nèi)，在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。CVD系統(tǒng)分類：CVD技術(shù)常常通過(guò)反應(yīng)類型或者壓力來(lái)分類，包括低壓CVD(LPCVD)，常壓CVD(APCVD)，亞常壓CVD(SACVD)，超高真空C......

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品名稱：CVD-DZDVK系列雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)： CVD-12DZDVK 雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)
CVD-14DZDVK 雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)
CVD-17DZDVK 雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)

CVD系統(tǒng)應(yīng)用：

CVD是化學(xué)氣相沉積的英文簡(jiǎn)寫(xiě)，本公司生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)是利用管式爐加熱，把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入爐管內(nèi)，在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。

CVD系統(tǒng)分類：

CVD技術(shù)常常通過(guò)反應(yīng)類型或者壓力來(lái)分類，包括低壓CVD(LPCVD)，常壓CVD(APCVD)，亞常壓CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等離子體增強(qiáng)CVD(PECVD)，高密度等離子體CVD(HDPCVD)以及快熱CVD(RTCVD)。然后，還有金屬有機(jī)物CVD(MOCVD)，根據(jù)金屬源的自特性來(lái)保證它的分類，這些金屬的典型狀態(tài)是液態(tài)，在導(dǎo)入容器之前必須先將它氣化。

CVD系統(tǒng)組成：

CVD系統(tǒng)=管式爐+真空抽氣系統(tǒng)+多路供氣系統(tǒng)（或者液態(tài)蒸發(fā)系統(tǒng)）

雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)配置選擇：

配置一：雙溫區(qū)管式真空氣氛爐：

SK2-12DZD 管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：50—200mm

SK2-14DZD 管式真空氣氛爐，1400℃，管徑：50—100mm

SK2-15DZD管式真空氣氛爐，1500℃，管徑：50—100mm

SK2-17DZD 管式真空氣氛爐，1700℃，管徑：50—100mm

配置二：真空抽氣系統(tǒng)：
可以選配：LVSE-0.1；LVSE-0.1A；HVSE
LVSE-0.1低真空控制系統(tǒng)
產(chǎn)品應(yīng)用：

該系統(tǒng)為一組低真空機(jī)組設(shè)備，控制設(shè)備真空度小于1Pa一下；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設(shè)備使用

設(shè)備組成：設(shè)備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計(jì)、真空波紋管、支架、真空泵組成

技術(shù)參數(shù)：

1、真空泵：FX-16

2、真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、真空泵極限壓強(qiáng)：（Pa）≤4*10^-2

4、高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、真空波紋管：KF25*1000mm

6、真空計(jì)VRD-I:規(guī)管型號(hào)ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

7、電源功率：220v/50Hz；0.8kw

8、出氣進(jìn)氣口規(guī)格：KF25

9、連接口：2個(gè)KF25接口

LVSE-0.1A可調(diào)低真空控制系統(tǒng)

產(chǎn)品應(yīng)用：
該系統(tǒng)為一組低真空恒壓機(jī)組設(shè)備，控制設(shè)備真空壓力恒定在1.0KPa—100.0KPa之間；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設(shè)備使用

設(shè)備組成：設(shè)備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計(jì)、真空波紋管、支架、真空泵、變速器、電動(dòng)調(diào)節(jié)閥門(mén)等組成；

技術(shù)參數(shù)：

1、真空泵：FX-16

2、真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、真空泵極限壓強(qiáng)：（Pa）≤4*10^-2

4、高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、真空波紋管：KF25*1000mm

6、真空計(jì)：VRD-I:

7、規(guī)管型號(hào)ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

8、電源功率：220v/50Hz；0.8kw

9、調(diào)速變頻器：0.75kw

10、壓強(qiáng)控制范圍：1.0KPa—100KPa

11、壓強(qiáng)控制精度：±1KPa

12、出氣進(jìn)氣口規(guī)格：KF25

13、連接口：2個(gè)KF25接口

HVSE高真空控制系統(tǒng):

產(chǎn)品應(yīng)用：
該系統(tǒng)為一組復(fù)合分子泵、前級(jí)抽氣泵機(jī)組設(shè)備，控制設(shè)備真空度小于8*10^-4Pa；配合真空管式爐、箱式真空氣氛爐等高真空設(shè)備使用；廣泛應(yīng)用于表面分析、半導(dǎo)體設(shè)備、等離子體技術(shù)、電真空器件的制造及真空技術(shù)研究

設(shè)備組成：設(shè)備由復(fù)合分子泵、前級(jí)抽氣泵、隔斷放氣閥、前級(jí)管路、分子泵電源、高真空檢測(cè)系統(tǒng)（復(fù)合真空計(jì)）、控制電源組成

產(chǎn)品特點(diǎn)：

預(yù)抽氣旁路設(shè)計(jì)，前級(jí)抽氣不經(jīng)過(guò)分子泵避免預(yù)抽氣體中顆粒進(jìn)入分子泵

技術(shù)參數(shù)：

1、前級(jí)真空泵：TRP-24

2、真空泵抽氣速度：4L/s

3、分子泵：FJ-620

4、抽氣速率：600L/s

5、分子泵極限壓強(qiáng)：6*10^-6Pa

6、建議啟動(dòng)壓強(qiáng)：＜100Pa

7、排氣口法蘭：KF40

8、進(jìn)氣口法蘭：DN160LF