北京中科科美科技股份有限公司
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直線式勞埃透鏡鍍制機，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發的儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數多（數千層甚至更多）且膜層位置和厚度精度高（總位置平均誤差小于±5nm，每層的厚度誤差小于0.1nm）。為了保證每個膜層的厚度精度，采用磁控濺射技術來實現膜片的制備，其優點是，能夠精確控制膜層厚度，重復性好，薄膜與基片結合緊密，薄膜純度高、致密性好。
直線式勞埃透鏡鍍制機，是為高能同步輻射光源（HEPS）研發的儀器裝備，用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數多（數千層甚至更多）且膜層位置和厚度精度高（總位置平均誤差小于±5nm，每層的厚度誤差小于0.1nm）。為了保證每個膜層的厚度精度，采用磁控濺射技術來實現膜片的制備，其優點是，能夠精確控制膜層厚度，重復性好，薄膜與基片結合緊密，薄膜純度高、致密性好。
性能參數：
進樣室
本底極限真空度<8×10-5Pa
腔室漏率<1×10-7Pa.L/s
基板加熱溫度≥500℃
沉積室
極限真空度：<8×10-6Pa
腔室漏率<1×10-8Pa.L/s
靶位個數≥9個
靶與樣品間距離60~100mm手動可調
單個電源可切換的靶位個數≥4個
基板加熱溫度≥200℃
運動系統速率穩定性≤0.1% /300mm
運動系統直線度≤30μm/300mm
檢測室
極限真空度：<8×10-6Pa
腔室漏率<1×10-8Pa.L/s
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