小型蒸鍍儀金屬蒸鍍是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存，高性價比，非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等

詳細介紹

小型蒸鍍儀金屬蒸鍍KT-Z1650CVD，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發鍍膜設備的示意圖。

以下是不同真空度不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；

★ 復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統（分子泵抽速≥400L/S）；

★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；

★ 專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；

★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；

★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；

★ 可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻

★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

★ 7寸顯示器定時定點調節電流，達到控制功率效果

★ 具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果

★ 配置了靶臺擋板，可手動調節或自動調節擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果

小型蒸鍍儀金屬蒸鍍技術資料

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
最1大功率	≤1200W
最1大輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （最1大可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發源調節距離	70-140mm
蒸發溫度調節	≤1800℃
支持蒸發坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）