真空直流磁控濺射儀器KT-Z1650PVD，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。

詳細(xì)介紹

鄭州科探儀器設(shè)備是高質(zhì)量定制物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高度積極地開(kāi)發(fā)新設(shè)計(jì)以滿足客戶的特殊要求。

鄭科探的工程團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)和制造的組件符合高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。KT-Z1650PVD真空鍍膜機(jī)已通過(guò)分銷商銷往許多大學(xué)和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述：

真空直流磁控濺射儀器KT-Z1650PVD，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑?span style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; -webkit-appearance: none; margin: 0px;">Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡(jiǎn)單快速

• 通過(guò)觸摸屏中直觀檢測(cè)數(shù)據(jù)和曲線；歷史頁(yè)面可顯示歷史涂層信息。

• 可控鍍膜速率，可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)

• 可手動(dòng)或自動(dòng)，根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射

• 樣品臺(tái)更換簡(jiǎn)單：標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)為多孔樣品帶來(lái)好的噴金效果。

真空直流磁控濺射儀器KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口