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更新時間：2025-02-21 16:03:53瀏覽次數(shù)：1393次

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MR Hei-EndHeidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End的詳細資料：

Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

高安全性能

• 800Ｗ加熱功率（600 W 于 115/100 V）

•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

•優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

•優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

•加熱盤直徑: 145 mm

•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

•預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達到預(yù)設(shè)定的溫度差時

•獨立線路開關(guān)自動停止加熱

•避免錯誤的溫度設(shè)定

Heidolph 海道夫加熱型磁力攪拌器MR Hei-End

•速度范圍: 30 - 1,400 rpm

•出眾的溫度控制精度: ±1 %

•數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實際值）

•加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C

•介質(zhì)溫度范圍:zui高 250

•精確溫度設(shè)定：±1K

•當(dāng)停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量

•照明開關(guān)

•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機

•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）

加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec

適用于更高實驗要求

MR Hei-Tec

•800 W加熱功率（600 W 于 115/100 V）

•數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實際溫度

•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C

•介質(zhì)溫度范圍: zui高達 250°C

•速度范圍: 100 - 1,400 rpm

•速度控制精度:±2 %

•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

•當(dāng)溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關(guān)自動停止加熱

•照明開關(guān)

•電子溫度控制

（選配 EKT Hei-Con）

•精確溫度設(shè)定: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機

•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）

MR Hei-Tec

•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

•加熱盤直徑: 145 mm

MR Hei-Tec [ ]

•與 MR Hei-Tec 參數(shù)*

•正方形加熱盤

•加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成

•加熱盤尺寸 w x d （mm）: 132 x 132

加熱型磁力攪拌器MR Standard

適用于任何實驗室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器

MR Hei-Standard

• 800 W 加熱功率（600 W 于 115/100 V）

•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C

•介質(zhì)溫度范圍: zui高達 250°C

•速度范圍: 100 - 1,400 rpm

•速度控制精度:±2 %

•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金

- 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能

- 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能

•加熱盤直徑: 145 mm

•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能

•當(dāng)溫度偏離控制溫度達50°C時，獨立線路開關(guān)自動停止加熱

•電子溫度控制

（選配 EKT Hei-Con）

•精確溫度設(shè)定: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K

（選配 EKT Hei-Con）

•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命

•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機

•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達 20升（ H2O）

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