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閱讀：9發布時間：2025-2-21
等離子表面處理儀又稱作等離子體清洗儀，通過等離子體去除樣品表面的污染物從而達到清洗目的。使用等離子體處理樣品表面不僅可以達到清潔表面的目的，而且可以改變材料表面的親水性。
典型的低溫等離子表面處理儀結構由五個部分組成，分別有真空腔體及電極組件、等離子體發生器、真空系統和控制系統。
等離子表面處理儀結構示意圖
真空系統及電極組件
低溫等離子表面處理儀中真空系統是一個關鍵部分。等離子體的產生,材料的處理均在該腔體中完成。真空系統提供保持等離子體產生時一定的真空度的處理氣體以一定量進入真空腔體,一旦真空腔體達到產生等離子體所要求的真空度,等離子體發生器信號加到電極上便產生等離子體。處理氣體通過真空系統中的流量控制器被導入真空腔體,由流量控制器控制每種處理氣體精確流入保證低溫等離子體處理材料的要求。低溫等離子體是在電極板之間放電產生的,因此,在真空腔體中設計了極板組件,待處理的高分子材料存放在極板上。
電極組件有兩個功能,一是低溫等離子體發生器通過電極組件在真空腔體內產生低溫等離子體,二是存放待處理的產品及材料。
等離子發生器
等離子體發生器信號加在電極上便開始激發真空腔體內的處理氣體產生等離子體,處理用氣體等離子體發生器能量被電離。常用等離子體發生器工作頻率從千赫茲到兆赫茲。其中射頻等離子體發生器的頻率為13.56MHz,中頻等離子體發生器的頻率為40KHz。
控制系統
低溫等離子表面處理儀的真空系統和等離子體發生器的運行均由控制系統控制。控制系統由作為核心,通過觸摸屏作為人機接口,在觸摸屏上進行手動操作和自動操作。在觸摸屏上控制真空泵、等離子體發生器、進氣閥、排氣閥、氣體流量計的開啟,真空度的設置、處理時間、處理氣體的選擇和流量大小、等離子體發生器功率等都由控制系統進行控制,整個控制系統在自動狀態下可適時進行動態控制。
以上就是關于等離子表面處理儀各部分結構組成的簡單介紹。上述只是常見的關于（CCP）電容耦合等離子體產生方式的等離子表面處理儀結構介紹，不同等離子體放電方式的等離子表面處理儀結構略有不同，但是大部分結構組成都是相似的，只是在放電部分略有不同。
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