脈沖激光沉淀系統工作站PLD是氧化還原系統，脈沖激光沉積（PLD）是一種用于薄膜沉積的多用途工藝，其主要優點是將化學計量的材料從靶轉移到襯底。
SURFACE PLD工作站是一個優秀的薄膜原型制作和研究系統，可方便地獲取新材料，尤其是高級氧化物層。
PLD脈沖激光沉積工作站將PLD系統的所有組件（包括激光和激光氣體供應）集成到一個機架中。緊湊的設計能夠最靈活地使用系統，并避免了許多硬件安裝工作。所有這些都是的多功能性的關鍵，即使對于沒有PLD技術經驗的用戶，也可以使用脈沖激光沉積PLD！
脈沖激光沉積PLD工作站以強大而緊湊的封裝提供*的沉積技術，適用于廣泛的應用。盡管具有所有內置的靈活性，但安全始終是優先事項：
封閉的激光束線，帶有外部驅動的反射鏡調節，可安全地防止暴露于紫外線激光輻射
激光器和激光器氣體柜連接到外部排氣管
脈沖激光沉淀系統工作站真空室：靈活性良好
工作站視口真空室是為研究而設計的。它具有適用于見的現場分析工具或其他系統擴展的備用法蘭：
光學分析方法：OES或FTIR
RHEED
質譜儀器
額外的沉積或等離子源
此外，兩個窗口允許從兩個不同的角度和兩側對過程進行視覺接觸。大前門可進入主要工藝部件：靶材和基板操縱器。標準配置提供2“基板加熱器和4×2”分度目標操縱器。可選1“基板加熱器和激光加熱器。
為了調節工藝條件，標準配置了兩個用于將工藝氣體供應至腔室的質量流量控制器通道。它們能夠自動控制工藝氣氛和壓力。
通過結合控制軟件設計目標操縱器，避免了目標表面上的錐體形成，并保證了目標的均勻磨損。激光束將以兩個不同的入射角照射目標的每個點，因此無法形成影響燒蝕材料化學計量的錐體。
為了實現均勻的目標磨損，沉積過程中有兩種不同的目標運動模式：
搖擺：目標轉盤以連續運動的方式來回移動，以便激光束在距離目標中心任意半徑處擊中目標。該模式易于設置，只需知道目標直徑。
掃描：移動目標轉盤，使激光束在目標上“寫入”定義的軌跡。調整目標旋轉速度和軌道間距以匹配激光光斑大小和重復率。這實現了目標表面的非常均勻的磨損。
脈沖激光沉淀系統工作站控制軟件
所有SURAFCE PLD系統都高度自動化，以控制整個沉積過程。這確保系統易于操作。PlumeMaster軟件基于經驗證的Windows XP Professional操作系統。具有單獨設置的幾個工藝步驟可以組合成一個沉積程序。直觀的過程可視化、具有數據導出功能的高度靈活的數據記錄和自檢功能是附加功能。
所提供的軟件還包括SURFWARE——來自SURFACE的高級客戶支持工具：
與SURFACE支持組快速聯系
SURFACE支持工程師通過互聯網（TCP/IP）和集成網絡攝像頭提供視聽支持
支持工程師可以遠程控制系統，同時保持視聽聯系
通過過程編程輕松解決硬件問題和客戶問題
通過互聯網的自動軟件更新程序
脈沖激光沉淀系統工作站規格參數
激光：相干COMPexPro 201F或205F，脈沖能量0.7 J
波長：248 nm
激光氣體：20升預混氣體，10升氦氣，內置氣體柜
工藝氣體：2個MFC通道，自動壓力控制
基板加熱器：直徑1“或2”，1000°C（其他尺寸可根據要求），或激光加熱器
基板旋轉：0至50 rpm
目標：4×2“，目標旋轉（0-50 rpm）和位置，帶有軌跡控制，磨損均勻
控制系統：基于PC的控制，集成TFT顯示器
IT功能：LAN連接、SURFWARE支持軟件
尺寸：約。2200×850×1600毫米³
電源：3×400 VAC/50 Hz或3×208 VAC/60 Hz
水冷：包括冷卻器（201F）
