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等離子體增強原子層沉積系統

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更新時間：2023-03-30 11:34:13瀏覽次數：219次

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產品簡介

等離子體增強原子層沉積系統采用更大的腔室和等離子ALD模塊,獲得更好的原子層沉積效果

詳細介紹

等離子體增強原子層沉積系統采用更大的腔室和等離子ALD模塊,獲得更好的原子層沉積效果。
等離子體增強原子層沉積系統特點
腔室圓柱形和工程設計的流型均勻性。
適用于多種不同的基板和沉積材料。
出于安全目的，在分離的區域進行前體、泵送、捕集和控制。
用戶友好且易于訪問所有組件
等離子體增強原子層沉積系統規格參數
不銹鋼腔室
具有4-8條不同前體（冷和熱）管線的前體進料系統
配備快速氣動閥的前體進料系統。
多段溫度控制：前體、加熱夾套，范圍0-200ºC，分辨率1ºC腔室，范圍0-300ºC，分辨率1ºC–腔室的管道入口和出口，范圍0-150ºC，分辨率1ºC。
基本壓力為10-1/10-3毫巴。
工具尺寸，1000x600x1000mm。
帶觸摸屏的控制系統：
系統狀態信息：氣體流量、溫度、壓力和閥門。
過程監控：壓力和溫度。偏差警報和安全鎖。
配方處理和實時監控。
自動蓋和人體工程學設計。視覺和聲音警報。

關鍵詞：原子層沉積系統氣動閥觸摸屏控制系統