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紫外曝光機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)FPMIC-aligner

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更新時(shí)間：2021-08-20 09:10:22瀏覽次數(shù)：149次

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孚光精儀（中國）有限公司

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產(chǎn)品簡介

這款紫外曝光機(jī)非常適合對(duì)紫外光敏感層曝光處理，是理想的紫外掩膜曝光機(jī)系統(tǒng)和掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī),maskaligner.紫外曝光機(jī)廣泛用于光學(xué)，生物，微納科技，光刻等領(lǐng)域需要1-2掩膜的應(yīng)用

詳細(xì)介紹

這款紫外曝光機(jī)非常適合對(duì)紫外光敏感層曝光處理，是理想的紫外掩膜曝光機(jī)系統(tǒng)和掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī),mask aligner.紫外曝光機(jī)廣泛用于光學(xué)，生物，微納科技，光刻等領(lǐng)域需要1-2掩膜的應(yīng)用。
紫外掩曝光機(jī)特點(diǎn)
1)的單色曝光，曝光帶寬小于10nm;
2)冷紫外曝光，襯底環(huán)境溫度實(shí)時(shí)控制，從而實(shí)現(xiàn)均勻曝光，消除熱效應(yīng)；
3）*的功率密度
4）紫外LED壽命更長，高達(dá)10000小時(shí)；
5）方便用戶使用的觸摸屏配置；
6）不需要預(yù)熱；
7）計(jì)算機(jī)控制紫外光源強(qiáng)度調(diào)節(jié)；
8）自動(dòng)晶圓裝載和卸載功能；
9）超低能耗；
更多激光直寫光刻機(jī)請(qǐng)瀏覽：/guangkeji.html
紫外掩曝光機(jī)參數(shù)
分辨率：2微米
發(fā)射光譜：365+/-5nm, 385+/-5nm
4英寸晶圓照明： 25mW/cm^2 +/-10%
暴曬時(shí)晶圓溫度加熱:<1攝氏度
暴曬循環(huán)：1秒~18小時(shí)
記憶的曝光循環(huán)數(shù)： 10個(gè)
功率：180W
重量：8.2kg
尺寸: 260x260x260mm^2
電源： 110V/230v50Hz