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高分辨率激光直寫光刻機

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產品型號FPKLOE-Dilase650

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更新時間：2021-08-19 13:41:27瀏覽次數：155次

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產品簡介

高分辨率激光直寫光刻機的多功能激光光刻機，它通過固定連續的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結構，直寫面積高達6英寸，最小特征尺寸（寬度）可達1微米，適合掩膜，半導體，玻璃，晶體，薄膜等諸多襯底

詳細介紹

高分辨率激光直寫光刻機的多功能激光光刻機，它通過固定連續的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結構，直寫面積高達6英寸，最小特征尺寸（寬度）可達1微米，適合掩膜，半導體，玻璃，晶體，薄膜等諸多襯底。
高分辨率激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm。微型激光直寫光刻機具有電動光學聚焦系統，提供快速精準的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。

高分辨率激光直寫光刻機兼容大多數商用光刻膠，比如SU8，shipley, AZ等，我們還對K-CL膠特別優化，用于微結構應用。
高分辨率激光直寫光刻機特色
非常緊湊的桌面型設計
掩膜制作和激光直寫
激光光源375nm 或405nm 任選
兼容所有商用光刻膠
對比度高達1x20
自動聚焦
豎直直寫或掃描直寫模式

高分辨率激光直寫光刻機參數
直線直寫速度：高達500mm/s
位移臺分辨率：100nm
重復精度：100nm
晶圓直寫面積：1-6英寸
襯底厚度：250um-10mm
激光光斑大小：1um-50um
標準準直精度：500nm

關鍵詞：標準

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